케이씨텍의 Batch Wet Cleaning System은 300mm 실리콘 웨이퍼의 양면에서 발생하는 미세 오염물(파티클, 금속 불순물, 표면 흡착 화학물질 등)을 효과적으로 제거하는 첨단 침적식 세정장비입니다. 25~50매의 웨이퍼를 다수의 세정조에 침적하여 약액 처리 후 순수로 세척, Hot IPA로 건조하는 방식으로, 공정 라인에 맞춰 Front Type과 I Type으로 유연하게 대응할 수 있습니다. 뛰어난 파티클 제거 성능, 금속 오염 최소화, 높은 처리량(최대 460 WPH), 공정 자유도, 연속 처리로 오염 및 산화막 성장을 방지하는 등 반도체 제조 현장의 수율과 신뢰성을 극대화합니다.
Wet Station은 웨이퍼 표면의 불순물 제거와 세정 공정을 자동화한 첨단 설비입니다. 다양한 화학약품 처리와 정밀 온·습도 제어 기능을 갖추고 있어 미세 패턴 공정에 최적화되어 있습니다. 고효율 필터링 시스템과 사용자 친화적 인터페이스를 통해 생산성을 극대화하며, 글로벌 기준에 부합하는 안정성과 품질을 자랑합니다.
SSP200은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 사용되는 고성능 습식 세정 장비로, 웨이퍼 표면의 오염물과 잔여물을 효과적으로 제거합니다. 자동화된 세정 공정과 다양한 세정 모드를 지원하여 생산 라인의 품질 관리와 생산성을 극대화하며, 미세 공정 대응을 위한 정밀 제어 기능을 갖추고 있습니다.
Wet Station은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼의 세정, 식각, 박리 등 다양한 습식 공정을 자동화하는 첨단 장비입니다. 고효율의 세정 성능과 정밀한 공정 제어 기능을 갖추고 있어 미세 공정에서의 오염 방지와 생산성 향상에 최적화되어 있습니다. 다양한 공정 조건에 맞춘 맞춤형 설계와 안전 시스템을 적용하여 반도체 제조 현장의 품질과 효율을 극대화합니다.
반도체 및 전자부품 제조 공정에서 필수적인 습식(Wet Process) 자동화 장비로, 웨이퍼 표면의 세정, 식각, 처리 작업을 고효율·고정밀로 수행합니다. 4~12인치 웨이퍼를 지원하며, 카세트/비카세트 타입 모두 적용 가능하고, 산·알칼리·유기화학물 등 다양한 화학물질을 활용해 공정 유연성과 품질을 극대화합니다. 고객 맞춤형 옵션 제공으로 다품종 소량생산부터 대량생산까지 폭넓게 대응합니다.
FFS2000은 반도체 제조공정에서 발생하는 웨이퍼 표면의 잔류가스를 효과적으로 제거하여 불량률을 현저히 낮추는 첨단 장치입니다. 플라즈마 공정 후 웨이퍼에 남아있는 오염물질을 신속하게 처리하며, 모듈형 설계로 기존 장비에 손쉽게 부착할 수 있어 설치 공간 및 생산공정 추가 없이 효율적인 환경 제어가 가능합니다. 최소 Foot Print를 차지하면서 주변 장비의 수명 연장에도 기여하며, 국내외 대형 반도체 업체에 공급되고 있습니다.
첨단 반도체 제조 공정에 필수적인 웨이퍼 세척기는 미세 오염물과 입자를 효과적으로 제거하여 제품 수율과 품질을 극대화합니다. 신우에이엔티의 웨이퍼 세척기는 자동화 설계와 정밀 제어 기술을 바탕으로, 다양한 크기의 웨이퍼에 최적화된 세정 솔루션을 제공합니다. 반도체 생산라인의 효율성과 신뢰성을 높이는 핵심 장비로, 글로벌 시장에서도 경쟁력을 인정받고 있습니다.
1Xnm급 반도체 공정에 대응하는 단일 웨이퍼 세정장비로, 콤팩트한 디자인과 다중 프로세스 노즐을 통해 뛰어난 처리량과 오염제어 성능을 제공합니다. 고급 소재와 친환경 기술을 적용해 SEMI 표준 및 CE 마크를 준수하며, 미세 오염까지 제거해 반도체 생산 효율성과 품질을 높입니다.
최첨단 자동화 기술로 설계된 APET 웨이퍼 세정기는 미세 오염물 제거와 공정 효율 극대화를 실현하여, 고집적 반도체 제조 라인에서 안정적인 품질과 높은 수율을 보장합니다. 다양한 크기의 실리콘 웨이퍼에 대응하며, 정밀한 제어 시스템과 에너지 절감 기능으로 글로벌 파운드리 및 IDM 업체들의 신뢰를 받고 있습니다.
