케이씨텍의 Batch Wet Cleaning System은 300mm 실리콘 웨이퍼의 양면에서 발생하는 미세 오염물(파티클, 금속 불순물, 표면 흡착 화학물질 등)을 효과적으로 제거하는 첨단 침적식 세정장비입니다. 25~50매의 웨이퍼를 다수의 세정조에 침적하여 약액 처리 후 순수로 세척, Hot IPA로 건조하는 방식으로, 공정 라인에 맞춰 Front Type과 I Type으로 유연하게 대응할 수 있습니다. 뛰어난 파티클 제거 성능, 금속 오염 최소화, 높은 처리량(최대 460 WPH), 공정 자유도, 연속 처리로 오염 및 산화막 성장을 방지하는 등 반도체 제조 현장의 수율과 신뢰성을 극대화합니다.
최첨단 정밀 가공 기술로 제작된 일진저스템의 Wafer Spin Chuck은 반도체 세정 및 코팅 공정에서 웨이퍼를 고속 회전시키며 균일하게 처리할 수 있도록 설계되었습니다. 내구성과 정밀도를 모두 갖춘 이 부품은 다양한 크기의 웨이퍼에 대응하며 생산 효율과 품질 향상에 기여합니다.
ASTRON은 (주)포톤이 독자적으로 개발한 4층 세정챔버 반도체 세정장비로, 파티클 발생 없는 로봇 시스템, 초정밀 고속 기판 이송, 고정밀 케미컬 분사 및 농도/온도 제어 등 첨단 기술이 집약된 장비입니다. 고청정 기류제어와 세정공정 최적화 기술을 통해 반도체 제조 공정의 효율성과 품질을 극대화하며, OLED 등 첨단 디스플레이 공정에도 적용 가능합니다. 관련 특허 6건을 보유하고 있으며, 고진공·고온 환경에서도 안정적인 성능을 제공합니다.
첨단 반도체 제조 공정에 최적화된 Wet 세정장비를 리퍼비시(Refurbished) 방식으로 공급합니다. 기존 장비의 성능을 최신 사양으로 업그레이드하여, 비용 효율성과 생산성 향상을 동시에 실현합니다. 엄격한 품질관리와 맞춤형 개조 서비스를 통해 고객의 다양한 생산 환경에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
케이씨텍의 배치 웨트 세정장치는 반도체 제조 현장에서 발생하는 미세 오염물(파티클, 금속 불순물 등)을 300mm 실리콘 웨이퍼 양면에서 효과적으로 제거합니다. 여러 장의 웨이퍼를 동시에 다양한 약액 처리와 순수 세척, Hot IPA 건조 공정을 거쳐 고효율·고청정도를 구현하며, 공정 라인 공간 배치에 유연하게 대응할 수 있습니다. 개별 챔버 방식으로 사이클 타임 단축과 균일성 향상, 오염 방지 기능까지 갖춘 첨단 장비입니다.
