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 반도체공정장비  제품/서비스 검색 결과 : 12

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제품/서비스명

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설명
Crossed-Roller Guide & LM Guide(주)멘토티앤씨
직선가이드자동화설비부품베어링시스템반도체공정장비산업자동화
자동화 스테이지의 핵심 요소 부품으로 자체 생산되는 크로스롤러 가이드와 LM 가이드는 높은 내구성과 정밀도를 자랑합니다. 다양한 자동화 장비 및 반도체 제조 설비에서 직선 운동의 정확성과 안정성을 제공하여 생산성 향상과 유지보수 비용 절감에 기여합니다.
세라믹 Chuck(주)디엠티
세라믹척웨이퍼처리반도체공정장비클린룸솔루션소재부품산업
세라믹 Chuck은 웨이퍼 처리 공정에 최적화된 고강성·내열성 소재로 제작되어 반도체 제조라인에서 안정적인 웨이퍼 고정과 미세 이동을 지원합니다. 뛰어난 내구성과 화학적 저항성을 갖추고 있어 클린룸 환경에서도 오염 없이 사용 가능하며, 반복 작업 시에도 일관된 품질을 제공합니다.
PCB Plating (PCB 도금 설비)(주)선우하이테크
PCB도금장치표면처리설비반도체공정장비자동화설비전자부품제조
선우하이테크의 PCB Plating 설비는 첨단 자동제어 시스템과 맞춤형 옵션을 적용하여 HDI, MLB, PKG, BGA 등 다양한 회로기판에 최적화된 고품질 도금 공정을 제공합니다. 싱글/듀얼 플레이트 타입, 자동 로딩·언로딩, 스마트 행거 모니터링 등 생산성과 품질 향상을 위한 혁신 기능이 집약되어 있으며, 고객 요구에 따라 두께(0.07~2.5t), 크기(W350~550mm/H400~620mm), 월간 처리용량(5천~2만5천㎡)까지 폭넓게 대응합니다.
자동 초음파세척기(주)클레슨
초음파세척기정밀부품청소반도체공정장비바이오클린룸설비미립자제거
미세 오염까지 제거 가능한 초음파 진동 기술이 적용된 첨단 세정장치입니다. 반도체·전자부품·바이오 용기의 정밀 세정을 위한 최적 솔루션으로서 고청결 환경이 요구되는 분야에서 높은 신뢰도를 자랑합니다.
RF Matcher (알에스테크 임피던스 매처)알에스테크(주)
임피던스매칭반도체공정장비플라즈마제어자동화설비전자부품솔루션
플라즈마 장치의 효율적인 에너지 전달을 위해 설계된 임피던스 매칭 장치로서, RF Generator와 챔버 간의 임피던스를 자동 조절하여 최적화된 플라즈마 상태를 유지합니다. 고속 응답성과 정밀한 제어 기능으로 생산성 향상과 불량률 감소에 기여합니다.
PCB Loader & Unloader System(주)디에스이엔티
PCB물류자동화반도체공정장비검사연동설비SMT라인자동화산업혁신솔루션
PCB Loader & Unloader System은 다양한 형태의 인쇄회로기판(PCB)을 자동으로 적재·분리·투입하는 고성능 물류자동화 설비입니다. 본 시스템은 다층기판 제조시 회로 형성 내층 기재(CCL) 간 층간 Registration 정밀 제어와 AOI/LDI 등 검사공정 연계가 가능하며, 작업 효율 극대화와 불량률 최소화를 목표로 설계되었습니다. 삼성전기·대덕전자 등 국내외 TOP CLASS 고객사들이 채택하고 있는 대표적인 솔루션입니다.
Wafer Chuck Control (웨이퍼 척 컨트롤)(주)디이에스
웨이퍼테스트척시스템반도체공정장비열제어솔루션생산자동화
Wafer Chuck Control 시스템은 6인치부터 12인치까지 다양한 크기의 웨이퍼를 정밀하게 제어하며 Hot & Cold Chuck 옵션을 통해 고온·저온 환경에서 안정적인 웨이퍼 테스트가 가능합니다. 매뉴얼 프로브 척 및 컨트롤러가 포함되어 있어 반도체 제조공정의 생산성과 품질 향상에 기여합니다.
Advanced Dicing Saw & Peripheral Equipment(주)우원테크놀러지
다이싱쏘우웨이퍼절단기반도체공정장비칩분리장치전자부품제조
Advanced Dicing Saw는 웨이퍼 및 다양한 전자부품의 초정밀 절단 공정을 지원하는 장비로서, 미세한 칩 분리와 생산 효율성을 극대화합니다. 주변 자동화 설비와 연동되어 대량생산 라인에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
Remote Plasma Generator (RPG)(주)뉴파워프라즈마
플라즈마세정기반도체공정장비CVD공정DryEtch공정클린룸설비
RPG(Remote Plasma Generator)는 반도체 및 디스플레이 박막 증착(CVD), 식각(Dry Etch), 세정 등 다양한 공정에서 챔버 내 잔존 부산물을 플라즈마로 분해·제거하는 핵심 장비입니다. 챔버 외부에서 플라즈마를 생성하여 내부로 공급함으로써, 공정 효율과 생산성을 높이고 불순물 축적에 따른 장비 오염을 최소화합니다. 글로벌 Top-tier 반도체·디스플레이 제조사에 공급되며, 높은 신뢰성과 안정성으로 세계 시장 점유율 1위를 기록하고 있습니다.
마이크로웨이브 플라즈마 발생 시스템알에프에이치아이씨(주)
마이크로웨이브플라즈마반도체공정장비CVD시스템의료암치료기술배터리소재제조
RFHIC의 마이크로웨이브 플라즈마 발생 시스템은 첨단 반도체 공정(CVD), 의료 암 치료기 및 배터리 소재 제조 등 다양한 산업 현장에서 활용됩니다. 독자적인 RF 및 마이크로웨이브 기술력을 바탕으로 균일하고 강력한 플라즈마를 생성해 생산성과 품질 향상을 지원하며 산업용·연구용 모두에 적합합니다.
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