원익아이피에스의 CVD 장비는 반도체 웨이퍼 표면에 고품질의 박막을 형성하는 핵심 장비로, 메모리 및 비메모리 반도체, 디스플레이 제조 등 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 고온·저온 공정 모두에 적용 가능하며, 대면적 웨이퍼의 균일한 박막 형성과 생산성 향상에 강점을 보유하고 있습니다. 국내 최초로 양산용 Metal ALD/CVD 200/300mm 장비를 개발한 경험을 바탕으로, 글로벌 시장에서 경쟁력을 인정받고 있습니다.
CVD SiC 코팅 부품은 화학기상증착(CVD) 기술을 활용해 표면에 실리콘카바이드(SiC) 코팅을 적용한 고내식성·고내열성 부품입니다. 반도체 및 디스플레이 제조 장비의 수명을 연장하고, 극한 환경에서도 안정적인 성능을 제공합니다. 티씨케이의 독자적인 코팅 기술로 생산되어, 글로벌 반도체 장비 시장에서 높은 평가를 받고 있습니다.
원익아이피에스의 ALD 장비는 원자 단위의 박막을 균일하게 증착하는 첨단 반도체 제조 공정 장비로, 3D NAND Flash, 하이-K를 적용한 10나노급 DRAM 등 차세대 반도체 양산에 필수적입니다. 세계 최초로 양산용 200mm ALD 장비를 개발한 기술력을 바탕으로, 정밀한 두께 제어와 우수한 박막 균일성을 제공하여 반도체 미세화 및 고집적화에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
Mini-Batch ALD System은 대면적 웨이퍼 및 디스플레이 소재의 고품질 봉지막 코팅을 위한 특화된 장비입니다. 최대 12인치까지 대응 가능하며 컴팩트한 설계와 효율적인 생산성을 갖추고 있어 연구개발부터 양산까지 폭넓게 활용됩니다. 특히 OLED 마이크로디스플레이 봉지막 형성 분야에서 국내외 기업 및 연구기관에 공급되고 있으며 파우더 코팅 등 다양한 응용 분야에도 적합합니다.
CVD-SiC Focus Ring은 차세대 반도체 공정용으로 개발된 실리콘카바이드 소재의 포커스링입니다. 높은 공유결합에너지로 인해 강도와 내구성이 뛰어나며, 플라즈마 내성이 우수해 미세공정에서 파티클 발생을 최소화합니다. 기존 카본 소재 대비 불량률이 낮고, 수율 및 수명 증가 효과로 반도체 제조 효율성을 극대화합니다.
그래핀 소재의 고품질 박막 형성을 위한 플라즈마 강화 원자층 증착(PE-ALD) 장비로, 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 핵심적인 역할을 합니다. 이 장비는 균일한 박막 증착, 공정 자동화, 고효율 생산성을 제공하며, 글로벌 시장에서 경쟁력 있는 국산화 솔루션으로 평가받고 있습니다. 맞춤형 설계와 신속한 A/S 지원이 가능해 대기업 반도체 라인에서도 테스트 및 양산이 진행 중입니다.
