기업명
(주)원익아이피에스
대표자 성함
이현덕
설립일
2016-04-04
기업 규모
중견기업코스닥
소재지
경기 평택시 진위면 진위산단로 75
주요 상품
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법인 번호
695-81-00374
사업자 번호
131311-0163174
직원 수
1,001-5,000 명
수출 희망 국가
주력 업종
반도체 제조용 기계 제조업
판매 방식
-
기업 연락처
031-8047-7000

제품/서비스

  • ALD (Atomic Layer Deposition) 장비

    원익아이피에스의 ALD 장비는 원자 단위의 박막을 균일하게 증착하는 첨단 반도체 제조 공정 장비로, 3D NAND Flash, 하이-K를 적용한 10나노급 DRAM 등 차세대 반도체 양산에 필수적입니다. 세계 최초로 양산용 200mm ALD 장비를 개발한 기술력을 바탕으로, 정밀한 두께 제어와 우수한 박막 균일성을 제공하여 반도체 미세화 및 고집적화에 최적화된 솔루션을 제공합니다.

  • CVD (Chemical Vapor Deposition) 장비

    원익아이피에스의 CVD 장비는 반도체 웨이퍼 표면에 고품질의 박막을 형성하는 핵심 장비로, 메모리 및 비메모리 반도체, 디스플레이 제조 등 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 고온·저온 공정 모두에 적용 가능하며, 대면적 웨이퍼의 균일한 박막 형성과 생산성 향상에 강점을 보유하고 있습니다. 국내 최초로 양산용 Metal ALD/CVD 200/300mm 장비를 개발한 경험을 바탕으로, 글로벌 시장에서 경쟁력을 인정받고 있습니다.

  • Dry Etching System (건식 식각 장비)

    원익아이피에스의 Dry Etching System은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 미세 패턴을 정밀하게 구현하는 고성능 식각 장비입니다. 고유 안테나 기반의 설계로 우수한 식각률과 균일성을 제공하며, LCD, AMOLED, Oxide TFT 등 다양한 애플리케이션에 적용 가능합니다. 최신 공정의 미세화와 고집적화 요구에 대응하여, 생산 효율성과 품질을 동시에 만족시키는 솔루션을 제공합니다.

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