코미코의 특수코팅 서비스는 반도체 제조 장비 부품에 플라즈마 내식성 및 내마모성을 극대화하는 첨단 코팅 기술을 적용합니다. 이를 통해 파티클 및 결손부위를 효과적으로 제어하고, 부품의 가공성과 경량화를 실현하여 장비 성능을 향상시킵니다. 코미코의 코팅 기술은 반도체 공정의 미세화·고단화에 대응하는 최적의 솔루션입니다.
인베니아의 Dry Etcher는 디스플레이 패널 제조 공정에서 핵심적인 역할을 하는 첨단 건식 식각 장비로, 플라즈마 기술을 적용하여 미세 패턴을 정밀하게 구현합니다. 이 장비는 TFT-LCD 및 OLED 패널 생산에 최적화되어 있으며, 고효율·고정밀 공정 구현을 통해 생산성 향상과 원가 절감을 동시에 실현합니다. 국내 최초로 국산화에 성공한 Dry Etcher는 글로벌 디스플레이 제조사에 공급되며, 기술력과 신뢰성을 인정받고 있습니다.
ESC 전극은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 웨이퍼를 정밀하게 고정하고 처리할 수 있도록 설계된 핵심 부품입니다. 뛰어난 절연성과 내구성을 바탕으로 플라즈마 환경에서도 안정적인 성능을 제공하며, 미세 패턴 공정의 생산성 향상과 품질 개선에 기여합니다. ICD 머트리얼즈는 첨단 소재와 독자적 가공기술을 적용하여 다양한 크기와 사양의 ESC 전극을 공급하고 있습니다.
RF Matcher는 반도체 및 디스플레이 제조 공정의 플라즈마 시스템에서 챔버(Chamber)와 RF 파워 소스(RF Power Source) 간 임피던스를 실시간으로 정합하여, 최대 전력을 안정적으로 전달하는 핵심 장치입니다. 이 장비는 공정 효율성과 품질을 극대화하며, 다양한 반도체·디스플레이 라인에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
플라즈마 기반의 첨단 공정으로 MLCC(적층세라믹콘덴서) 제조에 필수적인 고순도 나노파우더를 대량 생산하는 설비입니다. 균일한 입도 분포와 고품질 소재 생산이 가능해, 전자부품 산업의 경쟁력 강화에 기여합니다. 반도체·전자소재 분야의 첨단화에 대응하는 핵심 생산장비로 각광받고 있습니다.
반도체 공정의 핵심인 챔버는 고도의 정밀성과 내구성을 갖춘 설계로, 플라즈마 및 진공 환경에서 안정적인 반도체 제조를 지원합니다. 맥스플러스이엔지(주)의 챔버는 다양한 반도체 장비에 맞춤 적용이 가능하며, 고순도 소재와 정밀 가공 기술을 바탕으로 높은 신뢰성과 생산성을 제공합니다.
Etching & Ashing System은 반도체·LED·SAW 필터 등 다양한 재료의 식각 및 제거 공정을 위한 장비입니다. 고밀도의 플라즈마를 활용해 Si-Oxide 식각과 PR 애싱 등 미세 가공이 가능하며, 컴팩트한 디자인과 우수한 처리량으로 생산라인 최적화를 지원합니다. PC 기반 자동제어와 클러스터 타입 구조로 높은 신뢰성과 효율성을 제공합니다.
PRO-RPS는 자기유도결합(ICP) 방식의 첨단 플라즈마 발생 기술을 적용하여, 반도체 제조 공정에서 가스 분자에 고효율 에너지를 전달해 고에너지 활성종을 생성·공급합니다. 박막증착, 원자층 증착/식각, 표면처리 등 다양한 공정에서 균일하고 손상 없는 웨이퍼 처리를 실현하며, 원거리 공급으로 이온 손상을 최소화해 생산성과 품질 모두를 극대화합니다.
반도체 제조 공정에 필수적인 CHAMBER는 고도의 정밀 가공과 내구성을 바탕으로, 플라즈마 처리, 증착, 식각 등 다양한 반도체 공정에 최적화된 환경을 제공합니다. 대성이엔티의 CHAMBER는 오랜 기술 노하우와 품질 관리로 고객의 생산성 향상과 공정 안정성에 기여합니다.
최첨단 플라즈마 기술을 기반으로 개발된 사출성형용 탄소+메탈 나노융합소재는 경량화와 고강도 특성을 동시에 구현하여 자동차, 전자, 산업부품 등 다양한 분야에서 내구성과 성능 향상을 제공합니다. 소재의 미세 구조 제어를 통해 우수한 열·전기적 특성을 발휘하며, 친환경 공정과 대량 생산에 적합한 혁신적인 소재 솔루션입니다.
