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EMI Shield용 Sputtering System
EMI Shield용 Sputtering System은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 전자파 차폐(EMI) 기능을 위한 박막 증착 장비입니다. 초정밀 제어기술을 바탕으로 균일하고 안정적인 박막 형성이 가능하며, 다양한 소재와 기판에 적용할 수 있습니다. 자동화된 PC 제어와 클러스터 타입 설계로 생산 효율성과 유지보수 편의성을 극대화하였습니다.
Etching & Ashing System
Etching & Ashing System은 반도체·LED·SAW 필터 등 다양한 재료의 식각 및 제거 공정을 위한 장비입니다. 고밀도의 플라즈마를 활용해 Si-Oxide 식각과 PR 애싱 등 미세 가공이 가능하며, 컴팩트한 디자인과 우수한 처리량으로 생산라인 최적화를 지원합니다. PC 기반 자동제어와 클러스터 타입 구조로 높은 신뢰성과 효율성을 제공합니다.

재무 정보와 기술 경쟁력, 연구 협력 현황까지. 통합된 데이터 분석으로 한층 더 신뢰할 수 있는 판단을 지원합니다.

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