첨단 반도체 제조 공정에 최적화된 무진테크의 반도체부품 세정장비는 미세 오염물 제거와 정밀 세정 성능을 자랑합니다. 고효율 자동화 시스템을 적용하여 생산성 향상과 불량률 감소에 기여하며, 다양한 반도체 부품의 세정 요구에 맞춘 맞춤형 설계로 고객사의 품질 경쟁력을 높입니다. 신뢰성 높은 세정 공정으로 반도체 산업의 품질 기준을 한 단계 끌어올립니다.
첨단 반도체 및 LCD 제조 공정에 필수적인 세정장비를 공급합니다. 고효율 자동화 시스템과 정밀 제어 기능으로 오염물 제거 성능을 극대화하였으며, 생산 라인의 수율 개선과 불량률 감소에 기여합니다. 다양한 웨이퍼 및 패널 사이즈 대응 설계로 고객 맞춤형 솔루션 제공이 가능합니다.
에프엔에스테크의 OMM 세정장비는 대형 OLED 패널 제조 공정에서 사용되는 오픈메탈마스크(OMM)를 고도의 정밀도와 효율성으로 세정하는 첨단 장비입니다. 자체 개발한 세정 화학약품과 독자적 기술을 적용하여, 미세 오염물 제거 및 마스크 수명 연장을 실현하며, 대형 IT용 8.6세대 OLED 라인 등 차세대 디스플레이 생산에 최적화된 솔루션을 제공합니다. 국내외 주요 디스플레이 제조사에 공급되며, 대형 OLED용 OMM 세정이 가능한 국내 유일의 기업으로 시장을 선도하고 있습니다.
반도체, FPD, LED 제조장비 중 세정장비에 적용되는 고성능 수지(플라스틱) 가공 부품을 자체 제작합니다. 오엔은 합성수지 및 금속의 정밀 가공과 설비 조립 기술력을 바탕으로 삼성전자 등 대형 벤더사에 공급하며, 클린룸 환경에서 요구되는 내화학성·내열성을 갖춘 맞춤형 부품 생산으로 반도체 공정의 효율성과 신뢰성을 높입니다.
무진전자가 자체 지식재산권(IP)을 바탕으로 개발한 Wet Bench 세정장비는 다수의 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있는 대용량 자동화 시스템입니다. 소 여물통 형태의 긴 벤치 내에서 균일하고 효율적으로 이물질 및 잔류 화학물을 제거해, 대량생산 공정을 위한 최적의 청결도를 보증합니다. 뛰어난 내구성과 유지관리 편의성으로 파운드리 및 전력반도체 업체에서도 널리 채택되고 있습니다.
ASTRON은 (주)포톤이 독자적으로 개발한 4층 세정챔버 반도체 세정장비로, 파티클 발생 없는 로봇 시스템, 초정밀 고속 기판 이송, 고정밀 케미컬 분사 및 농도/온도 제어 등 첨단 기술이 집약된 장비입니다. 고청정 기류제어와 세정공정 최적화 기술을 통해 반도체 제조 공정의 효율성과 품질을 극대화하며, OLED 등 첨단 디스플레이 공정에도 적용 가능합니다. 관련 특허 6건을 보유하고 있으며, 고진공·고온 환경에서도 안정적인 성능을 제공합니다.
Wet Station은 웨이퍼 표면의 불순물 제거와 세정 공정을 자동화한 첨단 설비입니다. 다양한 화학약품 처리와 정밀 온·습도 제어 기능을 갖추고 있어 미세 패턴 공정에 최적화되어 있습니다. 고효율 필터링 시스템과 사용자 친화적 인터페이스를 통해 생산성을 극대화하며, 글로벌 기준에 부합하는 안정성과 품질을 자랑합니다.
Apollon 시리즈는 첨단 반도체 제조 공정에서 발생하는 오염원을 화학 용액으로 완벽하게 제거하는 고성능 습식 세정장비입니다. 30nm 이하 미세공정 대응 매엽식(Single)과 대량처리 배치(Batch) 타입 모두 제공하며, 파티클 및 미세 에칭양 제어에 탁월합니다. 공정 단순화, 비용 절감, 친환경 설계 등으로 국내외 반도체 생산라인의 품질과 효율을 극대화합니다.
SK하이닉스 등 국내외 유수 반도체 제조사에 공급된 무진전자의 Backside Clean 세정장비는 웨이퍼 후면 및 TSV 공정에서 발생하는 파티클을 효과적으로 제거하여 고집적·고성능 메모리 생산에 필수적인 청정 환경을 구현합니다. 싱글 챔버 방식과 멀티 챔버 구성을 통해 다양한 생산 라인에 최적화된 맞춤형 솔루션을 제공하며, 높은 자동화율과 정밀 제어 기술로 업계 최고 수준의 품질 안정성을 자랑합니다.
