Slit Nozzle은 감광액 등 특수 소재를 미세하고 균일하게 분사하는 데 최적화된 고정밀 부품으로, OLED·LCD 등 첨단 디스플레이 제조공정에서 핵심 역할을 담당합니다. 지아이텍만의 독자적 가공기술로 제작되어 높은 내구성과 정밀도를 자랑하며 다양한 고객 요구에 맞춘 커스터마이징 서비스를 제공합니다.
세계 시장점유율 1위(약 42%)를 자랑하는 PSK의 PR Strip은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면의 감광액(PR)을 플라즈마 기반 드라이 방식으로 완벽하게 제거합니다. 삼성전자 등 글로벌 고객사에 공급되며, 미세화·고집적화되는 첨단 반도체 공정에서도 탁월한 수율과 생산성을 실현합니다.
Spinless Coater는 회전 없이 균일한 박막 코팅 처리가 가능한 혁신적 장치입니다. 감광액 등 각종 화학물질 도포 시 입자 분포와 두께 편차를 최소화하여 고집적 회로 제조에 적합합니다. 비접촉 방식으로 오염 위험을 줄이고 유지보수 효율성을 높인 것이 특징이며 차별화된 코팅 품질을 제공합니다.
EUV PR Rinse는 반도체 극자외선(EUV) 노광 공정에서 감광액 도포 후 사용되는 고기능성 린스입니다. 짧은 파장의 EUV 공정에서 발생할 수 있는 패턴 결합 및 붕괴를 방지하며, 해상도와 표면 거칠기, 감도를 개선해 차세대 미세회로 구현에 최적화된 성능을 제공합니다. 국내 최초로 상용화에 성공한 이 제품은 글로벌 반도체 제조사의 양산 라인 평가를 통과하며 국산화의 새로운 기준을 제시합니다.
반도체 고집적 테스트용으로 개발된 MEMS 핀은 20:1의 고종횡비와 100㎛ 높이, 5㎛ 선폭의 미세구조를 구현하여 HBM 등 첨단 반도체의 협피치 검사에 최적화된 혁신적 부품입니다. 기존 감광액 방식의 한계를 극복한 아노다이징 기반 정밀 패터닝 기술로, 내구성과 전도성이 우수하며 100GHz 이상의 고주파 대역에서도 신호 손실 없이 사용 가능합니다. AI 및 고집적 반도체 산업의 성장에 따라 수요가 급증하고 있습니다.
TFT Photoresist는 컬러 픽셀을 미세하게 형성할 수 있는 감광성 액상 화학물질로, 반도체 식각 기술을 이용해 LCD 및 OLED 디스플레이의 색상과 화질을 결정하는 핵심 소재입니다. 고해상도, 고신뢰성 구현이 가능하며, 디스플레이 제조 공정에 최적화되어 있습니다. 엠티어는 Positive Photoresist, Color Resist 등 다양한 라인업을 보유하고 있으며, 모바일 및 TV용 디스플레이에 적용되어 세계 시장에서 경쟁력을 인정받고 있습니다.
