최첨단 반도체 제조 공정에 필수적인 종형확산로(Diffusion Furnace)는 웨이퍼에 균일한 도핑 및 산화막 형성을 실현하는 고성능 장비입니다. 온도 제어, 진공 및 가스 치환 기술을 적용하여 뛰어난 품질의 박막 증착과 높은 생산성을 동시에 제공합니다. 글로벌 반도체 기업들의 까다로운 요구를 충족시키며, 신뢰성과 내구성이 입증된 국제엘렉트릭코리아의 대표 제품입니다.
KS-Furnace Series는 다양한 열처리 공정에 적합한 고내구성 산업용 노와 버너 제품군으로서 정밀 온도 조절과 에너지 절감 기능이 탁월합니다. 내열 소재 사용과 첨단 안전장치가 적용되어 장기간 안정적인 운전이 가능하며 자동차·항공·전자 등 여러 중공업 분야에서 신뢰받는 핵심 설비입니다.
PF-V12 Vertical Furnace System은 반도체 제조 공정에 최적화된 고성능 수직 퍼니스 장비로, 산화(Oxidation) 및 N2/H2 어닐링(Annealing) 공정에 사용됩니다. 125mm부터 300mm까지 다양한 웨이퍼 크기를 지원하며, 최대 75장의 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있습니다. 400℃~1150℃의 넓은 온도 범위와 ±0.5~1℃의 우수한 열 균일성, 0.1~25℃/min의 램프 속도, 3~125cm/min의 보트 속도 등 첨단 사양을 갖추고 있어, 고품질 반도체 생산에 필수적인 장비입니다.
PF-D81 Series Furnace는 반도체 제조용 열처리 장비로, 정밀한 온도 제어와 균일한 열 분포를 제공하여 다양한 반도체 공정에 적용됩니다. 고효율 설계와 신뢰성 높은 성능으로, 생산성 향상과 품질 확보에 기여하는 핵심 장비입니다. 다양한 사양과 맞춤형 옵션을 통해 고객의 요구에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
고온·고압 환경에서 세라믹 및 특수 신소재의 소결과 성형에 사용되는 핵심 장비입니다. 삼양세라텍은 독자적인 열간가압 기술을 바탕으로 연구기관 및 대기업에 맞춤형 설계를 제공하며, 높은 온도 제어 정밀성과 안전성을 갖춘 시스템으로 다양한 첨단 소재 개발과 양산 공정을 지원합니다.
ALUX 용해로는 알루미늄 등 비철금속의 고효율 용융 공정에 특화된 산업용 로입니다. 높은 내열성과 균일한 온도 분포를 실현하여 원재료 손실을 최소화하고 생산성을 극대화합니다. 친환경 연소 시스템과 자동 모니터링 기능이 적용되어 작업 환경 개선과 운영 비용 절감에 기여합니다.
예스티의 퍼니스는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면에 박막을 증착하거나 열처리를 수행하는 핵심 장비로, 정밀한 온도·압력·유량 제어 기술을 바탕으로 고품질 박막 형성과 공정 안정성을 제공합니다. 고온·고압 환경에서도 균일한 처리와 높은 수율을 실현하며, HBM 등 첨단 메모리 반도체 생산에 필수적인 고부가가치 장비입니다.
