반도체 제조 공정에서 웨이퍼 보관용기(FOUP)의 오염을 제거하는 전용 세정장비입니다. 미세 오염까지 신속·정확하게 제거하여 반도체 생산라인의 품질 유지와 생산성 향상에 기여합니다. 국내외 주요 반도체 제조사에 공급되고 있으며, 고도의 오염제어 기술이 집약된 제품입니다.
반도체 웨이퍼 이송용 FOUP의 외부 및 내부를 고효율로 세정하는 첨단 장비입니다. FOUP Cleaner는 미세 오염물 제거와 정밀 세정 공정에 최적화되어, 반도체 제조 공정의 품질과 생산성을 극대화합니다. 자동화된 세정 시스템과 정전기 방지 기능을 갖추고 있어, 클린룸 환경에서 안정적으로 운영되며, 글로벌 반도체 제조사의 엄격한 품질 기준을 충족합니다.
반도체 제조 공정의 핵심인 FOUP(Front Opening Unified Pod) 운송을 자동화하는 스토커 시스템으로, 웨이퍼의 저장, 반입, 반출을 완전 자동화하여 생산 효율성과 청정도를 극대화합니다. 고속·고정밀 이송, 실시간 재고 관리, 공정 연동 등 첨단 기능을 갖추고 있으며, 반도체·디스플레이·2차전지 등 다양한 산업 현장에 적용되어 글로벌 톱티어 고객사에 공급되고 있습니다.
반도체 제조 공정에서 사용되는 FOUP(Front Opening Unified Pod) 내부의 진동, 온도, 습도 등 환경 데이터를 실시간으로 안전하게 수집·모니터링하는 솔루션입니다. 정밀한 환경 관리로 제품 품질을 극대화하며, 반도체 생산라인의 효율적 운영과 불량률 감소에 기여합니다.
JFS는 세계 최초의 기류 제어 기반 EFEM(Equipment Front End Module) 부착형 습도저감 모듈로서 추가 유틸리티 없이 간편하게 설치할 수 있습니다. FOUP 내부습도를 1% 이하까지 제어해 미세공정 환경에서 발생할 수 있는 이물성 및 Defect를 차단하여 생산수율과 품질 안정성을 극대화합니다.
싸이맥스의 Transfer Chamber는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼를 진공 상태로 안전하고 정밀하게 이송하는 자동화 시스템입니다. EFEM, LPM(FOUP Opener), ATM Robot 및 Vacuum Robot 등 첨단 모듈을 통합하여, 고청정·고속·고신뢰성의 웨이퍼 이송을 실현합니다. 삼성전자, SK하이닉스 등 글로벌 반도체 기업에 공급되며, 생산 효율성과 수율 향상에 핵심적인 역할을 담당합니다.
3세대 반도체 습도제어 솔루션인 JDM은 반도체 클린룸 내 45% 습도를 웨이퍼 이송용 FOUP(Front Opening Unified Pod) 안팎에서 1% 이하로 낮출 수 있는 독자적 기술력을 갖춘 장비입니다. 이를 통해 습도로 인한 손실을 최소화하고, 반도체 수율 향상에 기여합니다. 기존 시스템 대비 에너지 효율성과 설치 용이성이 뛰어나며, 글로벌 종합반도체기업에도 납품되고 있습니다.
발렉스서비스는 반도체, 디스플레이 등 첨단 제조현장의 클린룸 공조설비, 보일러, 냉동기, 공조기, 전력설비, 반도체 장비 chemical 공급설비 등 고정밀·고난이도 설비의 유지관리 서비스를 제공합니다. 정밀한 장비 사전정비, 세정, chemical 공급, 재조립 등 전문적이고 체계적인 유지보수로 고객사의 생산라인이 365일 안정적으로 가동될 수 있도록 지원하며, FOUP 세정, 제조시설 청결관리, 반도체 웨이퍼 공정 운송, 완제품 포장 등 생산지원 전반에 걸친 토탈 솔루션을 제공합니다.
LPM N2 Purge System은 웨이퍼가 담긴 FOUP에 질소(N₂)를 주입하여 내부 습도를 신속히 5% 이하로 낮추는 시스템입니다. 전 세계적으로 약 3만여 대가 공급되었으며 시장 점유율 약 80%를 기록하고 있습니다. 고순도의 질소 퍼지 기능으로 공정 중 산화와 오염 위험을 줄이고 생산 효율성을 높이는 데 필수적인 설비입니다.
EFEM은 반도체 생산라인에서 FOUP 내 웨이퍼를 자동으로 인식·개방·적재하며 각종 로봇과 연동해 전공정 장비와 완벽히 호환되는 전면 자동화 모듈입니다. 싸이맥스의 EFEM은 고속 처리능력과 높은 청정도를 자랑하며 다양한 고객 맞춤형 옵션 제공으로 글로벌 IDM 업체들의 신뢰를 받고 있습니다.
