EUV공정  제품/서비스 검색 결과 : 3건

켐트로닉스의 PGMEA는 극자외선(EUV) 노광 공정에 최적화된 친환경 초고순도 소재로, 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 포토레지스트 용제로 사용됩니다. 고순도와 안정성을 바탕으로 글로벌 반도체 기업에 공급되며, 첨단 미세공정 대응력을 갖춘 제품입니다.

EUV PR Rinse는 반도체 극자외선(EUV) 노광 공정에서 감광액 도포 후 사용되는 고기능성 린스입니다. 짧은 파장의 EUV 공정에서 발생할 수 있는 패턴 결합 및 붕괴를 방지하며, 해상도와 표면 거칠기, 감도를 개선해 차세대 미세회로 구현에 최적화된 성능을 제공합니다. 국내 최초로 상용화에 성공한 이 제품은 글로벌 반도체 제조사의 양산 라인 평가를 통과하며 국산화의 새로운 기준을 제시합니다.

EUV Thinner는 포토레지스트 스핀코팅 후 웨이퍼 가장자리 불순물 제거에 사용되며 초미세 패턴 정밀도를 높입니다. Developer(디벨로퍼)는 현상액으로서 특정 부위의 감광막만 선택적으로 제거해 정교한 회로 패턴 형성을 지원합니다. 두 소재 모두 차세대 메탈옥사이드 레지스트(MOR)에 최적화되어 있으며 국내외 주요 고객사의 양산 평가를 통과하여 본격 공급 중입니다.