원익아이피에스의 Dry Etching System은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 미세 패턴을 정밀하게 구현하는 고성능 식각 장비입니다. 고유 안테나 기반의 설계로 우수한 식각률과 균일성을 제공하며, LCD, AMOLED, Oxide TFT 등 다양한 애플리케이션에 적용 가능합니다. 최신 공정의 미세화와 고집적화 요구에 대응하여, 생산 효율성과 품질을 동시에 만족시키는 솔루션을 제공합니다.
인베니아의 Dry Etcher는 디스플레이 패널 제조 공정에서 핵심적인 역할을 하는 첨단 건식 식각 장비로, 플라즈마 기술을 적용하여 미세 패턴을 정밀하게 구현합니다. 이 장비는 TFT-LCD 및 OLED 패널 생산에 최적화되어 있으며, 고효율·고정밀 공정 구현을 통해 생산성 향상과 원가 절감을 동시에 실현합니다. 국내 최초로 국산화에 성공한 Dry Etcher는 글로벌 디스플레이 제조사에 공급되며, 기술력과 신뢰성을 인정받고 있습니다.
Dry Etcher는 반도체 제조 공정에서 핵심적인 건식 식각 장비로, 플라즈마를 이용해 미세 패턴을 정밀하게 형성하는 데 사용됩니다. 세미즈의 Dry Etcher는 오랜 경험과 기술력을 바탕으로 고품질의 식각 성능과 공정 안정성을 제공하며, 최신 반도체 생산 환경에 최적화된 설계와 신속한 A/S 지원으로 고객 만족도를 높입니다. Cleanroom 기반의 생산 및 특화된 리페어 서비스도 함께 제공되어, 반도체 제조사의 생산 효율을 극대화합니다.
PSK Dry Cleaning System은 식각(Etching) 이후 웨이퍼 표면의 미세 불순물을 비접촉·플라즈마 방식으로 신속하게 제거하여 고품질 반도체 생산을 지원합니다. 최신 HBM 및 3D 패키징 공정에도 적용 가능하며 수율 향상과 오염 최소화를 동시에 실현하는 차별화된 솔루션입니다.
TFT-LCD용 드라이 에처(Dry Etcher)는 초미세 회로 형성 및 고해상도 LCD 패널 제작에 필수적인 건식 식각 장비입니다. 아이씨디의 Dry Etcher는 대형(7G 이상) 유리기판 대응이 가능하며 우수한 균일성과 생산성을 자랑합니다. 삼성전자와 LG디스플레이 신규 라인에도 채택된 검증된 설비로서 국내외 시장에서 높은 점유율을 확보하고 있습니다.
Etching & Ashing System은 고정밀 식각 및 애싱 공정을 위한 장비로서 다양한 소재의 미세 가공과 표면 처리를 지원합니다. 균일한 식각 품질과 생산성 향상에 중점을 두었으며 자동화된 웨이퍼 핸들링 기능을 갖추고 있어 반도체·디스플레이 산업에서 신뢰받는 솔루션입니다.
Etching & Ashing System은 반도체·LED·SAW 필터 등 다양한 재료의 식각 및 제거 공정을 위한 장비입니다. 고밀도의 플라즈마를 활용해 Si-Oxide 식각과 PR 애싱 등 미세 가공이 가능하며, 컴팩트한 디자인과 우수한 처리량으로 생산라인 최적화를 지원합니다. PC 기반 자동제어와 클러스터 타입 구조로 높은 신뢰성과 효율성을 제공합니다.
Yttria(Y₂O₃)는 반도체 및 디스플레이 Dry Etching 공정에서 파츠류를 보호하기 위한 내식성·내플라즈마성 코팅 재료입니다. 분말 형태(25~35㎛ sintered granule)와 코팅 형태 모두 제공되며 우수한 내구성과 안정성으로 장비 수명을 연장하고 공정 효율을 극대화합니다.
