DUV 블랭크 마스크는 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 핵심적으로 사용되는 포토마스크의 원재료로, 석영유리기판 위에 금속박막과 감광액이 정밀하게 증착된 고순도 소재입니다. 에스앤에스텍은 일본 기업이 주도하던 시장에서 국산화에 성공하여, 미세공정 대응과 고품질 반도체 및 LCD 생산에 필수적인 제품을 공급합니다. DUV(Deep Ultraviolet) 공정에 최적화된 이 제품은 높은 투과율과 내구성을 자랑하며, 글로벌 반도체 제조사의 까다로운 품질 기준을 충족합니다.
최첨단 반도체 제조 공정에 필수적인 고순도 석영 유리 기판 위에 금속 박막과 감광액을 정밀하게 증착한 블랭크 마스크로, 패턴 노광 전 단계에서 사용되어 미세회로 구현의 정확성과 생산성을 극대화합니다. 에스앤에스텍은 EUV(극자외선) 및 DUV(심자외선) 공정에 최적화된 다양한 두께와 구조의 제품을 제공하며, 글로벌 반도체 기업에 공급하여 기술 경쟁력을 인정받고 있습니다.
쪽빛 염색 원단에 줄누비와 퀼팅 기법을 접목한 이불로서 깊고 선명한 색감과 촉감 좋은 소재가 특징입니다. 보색 대비를 활용해 조각보 같은 느낌을 주며 현대적 감각의 동양적 미를 강조합니다. 뛰어난 내구성과 부드러운 촉감으로 사계절 내내 쾌적하게 사용할 수 있으며 예단 및 혼수용으로도 인기가 높습니다.
EUV 블랭크마스크는 극자외선(EUV) 리소그래피 공정에 사용되는 첨단 반도체용 소재로, 7nm 이하 초미세 회로 패턴 구현에 필수적인 핵심 부품입니다. 고순도 석영 유리 기판 위에 금속 박막과 감광막이 정밀하게 증착되어, 미세공정에서 높은 해상도와 결함 제어를 실현합니다. EUV용 블랭크마스크는 기존 DUV용 대비 최소 10배 이상의 부가가치를 가지며, 글로벌 파운드리 및 메모리 반도체 제조사에 공급되고 있습니다.
클푸의 대표 이불솜으로, 저데니아 100% 마이크로화이바 충전재와 ALC커버를 적용해 최고급 천연 거위털과 유사한 촉감과 복원력을 제공합니다. 알러지케어 기능성 소재를 사용해 집먼지 진드기, 알러지 유발물질을 효과적으로 차단하며, 가볍고 포근한 사용감으로 사계절 내내 쾌적한 숙면 환경을 제공합니다. 물세탁이 가능해 위생적으로 관리할 수 있으며, 친환경 소재를 적용해 민감한 피부에도 안심하고 사용할 수 있습니다.
