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EUV 블랭크마스크
EUV 블랭크마스크는 극자외선(EUV) 리소그래피 공정에 사용되는 첨단 반도체용 소재로, 7nm 이하 초미세 회로 패턴 구현에 필수적인 핵심 부품입니다. 고순도 석영 유리 기판 위에 금속 박막과 감광막이 정밀하게 증착되어, 미세공정에서 높은 해상도와 결함 제어를 실현합니다. EUV용 블랭크마스크는 기존 DUV용 대비 최소 10배 이상의 부가가치를 가지며, 글로벌 파운드리 및 메모리 반도체 제조사에 공급되고 있습니다.
디스플레이용 블랭크마스크
디스플레이용 블랭크마스크는 LCD, OLED 등 평판디스플레이(FPD) 제조 공정에서 사용되는 핵심 소재로, 대형 석영 유리 기판에 금속 박막과 감광막을 증착하여 고해상도 디스플레이 패널의 정밀한 패턴 형성에 기여합니다. 다양한 크기(33x45cm~122x140cm)로 제공되며, 글로벌 디스플레이 제조사에 공급되어 고품질 패널 생산을 지원합니다.
반도체용 블랭크마스크
반도체용 블랭크마스크는 반도체 회로의 미세 패턴을 구현하기 위한 포토마스크의 원재료로, 고순도 석영 유리와 금속 박막, 감광막으로 구성되어 있습니다. 6인치 등 다양한 규격으로 생산되며, 삼성전자, SK하이닉스, TSMC 등 글로벌 반도체 제조사에 공급되어 첨단 반도체 소자 생산의 핵심 역할을 담당합니다.

재무 정보와 기술 경쟁력, 연구 협력 현황까지. 통합된 데이터 분석으로 한층 더 신뢰할 수 있는 판단을 지원합니다.

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