AlN Heater는 반도체 화학증착(CVD) 장비에 적용되는 고성능 세라믹 히터로, 뛰어난 열전도성과 내플라즈마성을 자랑합니다. 웨이퍼의 온도를 고온에서 균일하게 유지하여 미세 공정의 정밀도를 극대화하며, 기존 소재 대비 파티클 발생이 적어 생산 수율과 장비 신뢰성을 높입니다. DRAM, NAND Flash 등 첨단 반도체 공정에서 필수적인 핵심 부품입니다.
RPG(Remote Plasma Generator)는 반도체 및 디스플레이 박막 증착(CVD), 식각(Dry Etch), 세정 등 다양한 공정에서 챔버 내 잔존 부산물을 플라즈마로 분해·제거하는 핵심 장비입니다. 챔버 외부에서 플라즈마를 생성하여 내부로 공급함으로써, 공정 효율과 생산성을 높이고 불순물 축적에 따른 장비 오염을 최소화합니다. 글로벌 Top-tier 반도체·디스플레이 제조사에 공급되며, 높은 신뢰성과 안정성으로 세계 시장 점유율 1위를 기록하고 있습니다.
반도체 소자 제조 공정에서 박막 증착(CVD/ALD)에 사용되는 초고순도 실리콘 계열 프리커서입니다. BDEAS는 절연막 형성 및 고집적화된 회로 구현에 필수적인 소재로, 우수한 품질과 안정성을 바탕으로 글로벌 반도체 제조사에 공급되고 있습니다. 상온에서 무색 액체 형태를 띠며, Si-N 결합 구조 덕분에 다양한 첨단 공정 적용이 용이합니다.
