DTC(Deep Trench Capacitor) 실리콘 커패시터용 ALD 장비는 실리콘 웨이퍼에 깊고 좁은 트렌치를 형성하여 고유전율 레이어를 정밀하게 증착하는 첨단 장비입니다. 이 장비는 고주파, 고온 환경에서도 안정적으로 동작하는 고밀도 커패시터 제조에 필수적이며, 기존 MLCC를 대체할 차세대 소형 전자부품 생산에 최적화되어 있습니다. 주성엔지니어링의 독자적 기술로 개발되어, 초소형 폼팩터와 고성능 전자기기 시장에서 높은 경쟁력을 자랑합니다.
미코세라믹스의 AIN 세라믹 히터는 알루미늄 나이트라이드(AlN) 소재를 기반으로, 반도체 증착(CVD, ALD) 공정 장비의 챔버 내에 장착되어 웨이퍼에 균일하고 정밀한 열을 공급하는 핵심 부품입니다. 고순도·고내열 특성을 바탕으로 높은 열전도율과 내구성을 제공하며, 글로벌 반도체 장비 제조사와 칩 메이커에 공급되어 공정 효율성과 생산성을 극대화합니다. 일본 등 해외 의존도가 높았던 제품의 국산화에 성공하여, 세계 일류상품 인증을 획득한 대표적 혁신 제품입니다.
고효율 결정질 실리콘 태양전지 제조에 최적화된 ALD(원자층 증착) 장비로, 3200 wafer/hr 이상의 생산성을 자랑합니다. 대면적 적용과 높은 양산성을 갖추어 국내외 태양전지 셀 제조사에 공급되고 있으며, 정밀한 박막 형성 및 균일한 코팅 품질을 제공합니다. 첨단 반도체 및 에너지 산업에서 요구하는 신뢰성과 효율을 동시에 만족시키는 차세대 증착 솔루션입니다.
ATOMIC PREMIUM은 반도체 공정에 필수적인 원자층박막증착(Atomic Layer Deposition, ALD) 장비로, 박막 두께를 원자 단위로 정밀하게 제어할 수 있습니다. 써멀 및 플라즈마 강화(PE) 방식 모두 지원하며, 균일하고 순도 높은 박막을 저온에서 증착해 메모리칩·트랜지스터 등 첨단 소자의 성능 향상에 기여합니다. 고객 맞춤형 설계와 신속한 엔지니어링 서비스가 강점이며, OLED 디스플레이·이차전지 소재 코팅 등 다양한 첨단 산업에도 적용되고 있습니다.
여러 장의 웨이퍼를 동시에 가공할 수 있는 수직 구조의 퍼니스 장비로서 확산(Diffusion), 저압 화학기상증착(LPCVD), 원자층증착(ALD) 등 다양한 반도체 공정에 대응합니다. 뛰어난 온도 제어와 독창적인 챔버 설계로 미세구조 및 고집적 회로 생산에 최적화되어 있습니다.
원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD) 장비에 사용되는 부품으로, 절연막 형성 등 고사양 반도체 칩 제조 공정에 필수적입니다. 균일한 가스 분사와 내구성, 정밀 가공이 강점이며, 최신 반도체 및 디스플레이 생산라인에서 높은 신뢰성과 생산성을 제공합니다. 동원파츠의 샤워 헤드는 고객 맞춤형 설계와 품질관리로 글로벌 시장에서 경쟁력을 인정받고 있습니다.
