하드마스크  제품/서비스 검색 결과 : 3건

반도체 포토공정에 사용되는 하드마스크 소재는 미세회로 패턴 형성 시 필수적인 정밀화학소재로, 제이엘켐은 초고순도 합성과 정제 기술을 바탕으로 높은 내식성과 우수한 패턴 전사 특성을 갖춘 제품을 제공합니다. 이 제품은 첨단 반도체 제조라인의 생산 효율과 수율 향상에 기여하며, 글로벌 반도체 기업에도 공급되고 있습니다.

반도체 제조 공정에서 사용되는 고성능 스핀 코팅 하드마스크는 우수한 내화학성과 정밀 패턴 구현 능력을 갖추고 있습니다. DCT머티리얼의 독자적 합성 및 정제 기술이 적용되어, 미세회로 형성에 최적화된 두께 균일성과 높은 해상도를 제공합니다. 다양한 반도체 라인에 맞춤형으로 공급되며, 생산 효율성과 수율 향상에 기여합니다.

Spin-on Carbon(SOC)은 반도체 리소그래피 공정에서 하드마스크로 사용되는 첨단 소재로, 뛰어난 평탄화 특성과 내열성, 정밀한 패턴 전사 능력을 갖추고 있습니다. SK머티리얼즈퍼포먼스의 SOC는 고순도 카본 기반의 고분자 소재로, 미세회로 형성 시 패턴 왜곡을 방지하고, 다양한 공정 환경에 안정적으로 적용됩니다. 차세대 반도체 및 디스플레이, 이미지센서 등 다양한 첨단 산업에 적용 가능한 고부가가치 소재입니다.