에스케이머티리얼즈퍼포먼스(주)

ArF Immersion Photoresist는 최첨단 반도체 제조의 리소그래피 공정에 필수적인 감광재로, 193nm 불화아르곤(ArF) 레이저를 활용한 미세회로 패턴 형성에 최적화된 고순도 포토레지스트입니다. 뛰어난 해상도와 균일한 코팅 특성, 우수한 공정 안정성을 제공하여 DRAM, NAND 등 첨단 메모리 반도체 생산에 최적의 솔루션을 제공합니다. SK머티리얼즈퍼포먼스의 독자적 R&D 역량으로 개발된 이 제품은 글로벌 반도체 산업의 미세화 트렌드에 대응하며, 국산화로 공급 안정성과 기술 경쟁력을 동시에 실현합니다.

BARC는 반도체 리소그래피 공정에서 웨이퍼 표면의 빛 반사와 산란을 억제하여 미세 패턴의 정확한 형성을 돕는 고기능성 코팅 소재입니다. SK머티리얼즈퍼포먼스의 BARC는 ArF Immersion, KrF 등 다양한 파장에 최적화된 제품군을 보유하며, 높은 굴절률과 우수한 코팅성, 최소 두께로도 탁월한 물성을 구현합니다. 이를 통해 패턴 손실을 최소화하고 공정 윈도우를 넓혀, 반도체 제조의 생산성과 품질을 극대화합니다.

Spin-on Carbon(SOC)은 반도체 리소그래피 공정에서 하드마스크로 사용되는 첨단 소재로, 뛰어난 평탄화 특성과 내열성, 정밀한 패턴 전사 능력을 갖추고 있습니다. SK머티리얼즈퍼포먼스의 SOC는 고순도 카본 기반의 고분자 소재로, 미세회로 형성 시 패턴 왜곡을 방지하고, 다양한 공정 환경에 안정적으로 적용됩니다. 차세대 반도체 및 디스플레이, 이미지센서 등 다양한 첨단 산업에 적용 가능한 고부가가치 소재입니다.