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EUV PR Rinse는 반도체 극자외선(EUV) 노광 공정에서 감광액 도포 후 사용되는 고기능성 린스입니다. 짧은 파장의 EUV 공정에서 발생할 수 있는 패턴 결합 및 붕괴를 방지하며, 해상도와 표면 거칠기, 감도를 개선해 차세대 미세회로 구현에 최적화된 성능을 제공합니다. 국내 최초로 상용화에 성공한 이 제품은 글로벌 반도체 제조사의 양산 라인 평가를 통과하며 국산화의 새로운 기준을 제시합니다.