케이씨텍의 Batch Wet Cleaning System은 300mm 실리콘 웨이퍼의 양면에서 발생하는 미세 오염물(파티클, 금속 불순물, 표면 흡착 화학물질 등)을 효과적으로 제거하는 첨단 침적식 세정장비입니다. 25~50매의 웨이퍼를 다수의 세정조에 침적하여 약액 처리 후 순수로 세척, Hot IPA로 건조하는 방식으로, 공정 라인에 맞춰 Front Type과 I Type으로 유연하게 대응할 수 있습니다. 뛰어난 파티클 제거 성능, 금속 오염 최소화, 높은 처리량(최대 460 WPH), 공정 자유도, 연속 처리로 오염 및 산화막 성장을 방지하는 등 반도체 제조 현장의 수율과 신뢰성을 극대화합니다.
EFEM은 반도체 생산라인에서 FOUP 내 웨이퍼를 자동으로 인식·개방·적재하며 각종 로봇과 연동해 전공정 장비와 완벽히 호환되는 전면 자동화 모듈입니다. 싸이맥스의 EFEM은 고속 처리능력과 높은 청정도를 자랑하며 다양한 고객 맞춤형 옵션 제공으로 글로벌 IDM 업체들의 신뢰를 받고 있습니다.
0.1μm 초미세입자까지 99.999% 이상 제거하는 MINI-PLEAT ULPA FILTER는 클린룸 장비(EFU, FFU)에 최적화되어 있으며, 낮은 정압과 높은 효율을 동시에 실현합니다. Hot-Melt 방식의 미니 플리트 구조로 공간 활용성과 에너지 절감 효과를 극대화하여, 첨단 산업 현장의 청정도를 한 차원 높여줍니다.
CM 시리즈는 산업용 생산라인에서 발생하는 정전기와 1㎛ 이하의 미세먼지까지 효과적으로 제거하는 첨단 클리닝 장비입니다. 특수 고분자 소재와 Ionizer 기술을 통합하여 제품 표면의 이물질 및 정전기를 동시에 제거, 불량률을 최소화하고 생산 수율을 극대화합니다. 반도체, 디스플레이, 정밀전자 등 고청정 환경이 필수적인 산업에 최적화된 솔루션으로, 고객사의 품질 신뢰성 향상과 공정 효율 증대에 기여합니다.
SSP200은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 사용되는 고성능 습식 세정 장비로, 웨이퍼 표면의 오염물과 잔여물을 효과적으로 제거합니다. 자동화된 세정 공정과 다양한 세정 모드를 지원하여 생산 라인의 품질 관리와 생산성을 극대화하며, 미세 공정 대응을 위한 정밀 제어 기능을 갖추고 있습니다.
FFU는 반도체 및 디스플레이 생산라인의 청정도를 유지하기 위한 핵심 공기 정화 장치입니다. 고효율 필터와 저소음 팬이 결합되어 미세먼지와 오염물질을 효과적으로 제거하며, 다양한 라인에 맞춤형 설치가 가능합니다. 에너지 절감과 유지보수 편의성이 뛰어나며 삼성전자 등 국내 대기업에 납품되고 있습니다.
반도체 및 디스플레이 제조공정에 특화된 SD-SA90B 웨이퍼 트랜스퍼 로봇은 미세먼지 방지 설계와 초고정밀 제어 기술을 적용하여 클린룸 환경에서도 안정적으로 웨이퍼 이송 작업을 수행합니다. 빠른 사이클 타임과 높은 반복 정확도로 첨단 산업 현장의 품질과 생산성을 극대화합니다.
반도체 제조 공정의 핵심인 자동 웨이퍼 로더 등 첨단 장비 시리즈는 정밀한 이송 및 처리 기능과 높은 생산성으로 업계에서 인정받고 있습니다. 고객 맞춤형 설계와 안정적인 운전 성능을 통해 다양한 반도체 라인에 적용 가능하며 스마트 팩토리 환경 구축에도 적합한 솔루션입니다.
