초미세회로  제품/서비스 검색 결과 : 1건

EUV Thinner는 포토레지스트 스핀코팅 후 웨이퍼 가장자리 불순물 제거에 사용되며 초미세 패턴 정밀도를 높입니다. Developer(디벨로퍼)는 현상액으로서 특정 부위의 감광막만 선택적으로 제거해 정교한 회로 패턴 형성을 지원합니다. 두 소재 모두 차세대 메탈옥사이드 레지스트(MOR)에 최적화되어 있으며 국내외 주요 고객사의 양산 평가를 통과하여 본격 공급 중입니다.