LLO 시스템은 플렉시블 디스플레이 제조공정에 필수적인 레이저 박막 분리 장비로, 레이저와 광학 기술을 활용해 기판에서 캐리어 글래스를 분리하여 얇고 유연한 Thin Film Device 생산을 가능하게 합니다. 플렉서블 OLED 및 차세대 디스플레이 양산에 핵심적인 설비입니다.
아바코의 OLED 진공증착시스템은 유기발광다이오드(OLED) 제조 공정에서 핵심적인 역할을 하는 첨단 장비입니다. 이 시스템은 마스크와 기판을 보호하며, 정밀한 기판 위치 조절과 온·습도, 진공상태를 유지하여 이물질 접촉을 최소화하고 유기물 증착의 정확도를 극대화합니다. 아바코는 국내에서 해당 장비를 유일하게 양산할 수 있는 기술력을 보유하고 있으며, 글로벌 디스플레이 시장에서 인정받고 있습니다.
MAK의 대기압 플라즈마 장비는 반도체, 디스플레이, 각종 필름 제조 공정에 적용되어 표면 세정, 활성화, 멸균 등 다양한 용도로 사용됩니다. 맞춤형 플라즈마 소스 설계와 정밀 제어 기술을 바탕으로, 고효율·고신뢰성의 공정 환경을 제공합니다. 친환경적이며, 생산성 향상과 품질 개선에 기여하는 첨단 장비입니다.
EUV Mask Baking Laser는 반도체 EUV(극자외선) 노광 공정에 사용되는 마스크의 표면 품질을 극대화하기 위한 특수 레이저 베이킹 장비입니다. 레이저 빔의 에너지 프로파일을 정밀하게 제어하여 마스크 표면의 오염물 및 결함을 효과적으로 제거하고, 마스크의 내구성과 신뢰성을 높여 첨단 반도체 제조 공정의 수율 향상에 기여합니다. 글로벌 반도체 기업과의 공동 개발을 통해 기술력을 인정받고 있으며, EUV 공정의 핵심 장비로 자리매김하고 있습니다.
세계 최초로 나노소재 전용 초소형 전자빔 장치를 개발하여, 기존 대형 설비 대비 소형화와 효율성을 극대화했습니다. 이 장치는 금속 나노입자 제조, 신소재 개발, 비파괴 검사 등 다양한 산업 분야에 적용되며, 높은 에너지 효율과 균일한 입자 생산이 가능해 첨단 소재 산업의 혁신을 선도합니다. 방사선 차폐막 일체형 구조로 설치 공간이 최소화되어 연구·산업 현장에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
실리콘카바이드(SiC) 기반 전력반도체 웨이퍼 번인(Burn-In) 및 검사 시스템으로, 고내구성·고효율 전력반도체 생산에 필수적인 첨단 장비입니다. 대당 약 60억원 규모의 고부가가치 장비로, 글로벌 시장에서 한 회사가 독점하던 분야에 도전하는 국산화 신제품입니다. 대용량 웨이퍼 처리, 자동화 검사, 신뢰성 평가 등 첨단 기능을 갖추고 있습니다.
3세대 반도체 습도제어 솔루션인 JDM은 반도체 클린룸 내 45% 습도를 웨이퍼 이송용 FOUP(Front Opening Unified Pod) 안팎에서 1% 이하로 낮출 수 있는 독자적 기술력을 갖춘 장비입니다. 이를 통해 습도로 인한 손실을 최소화하고, 반도체 수율 향상에 기여합니다. 기존 시스템 대비 에너지 효율성과 설치 용이성이 뛰어나며, 글로벌 종합반도체기업에도 납품되고 있습니다.
