유진테크는 화학기상증착(CVD), 원자층증착(ALD)에 사용되는 전구체 소재를 설계부터 합성·정제·유통까지 일괄 공급하는 솔루션을 제공합니다. 금속게이트와 캐패시터 등 첨단 소자의 박막 형성에 필수적인 고순도의 전구체를 안정적으로 공급하여 국내외 파트너사의 공정 혁신과 국산화율 제고에 기여하고 있습니다.
여러 장의 웨이퍼를 동시에 가공할 수 있는 수직 구조의 퍼니스 장비로서 확산(Diffusion), 저압 화학기상증착(LPCVD), 원자층증착(ALD) 등 다양한 반도체 공정에 대응합니다. 뛰어난 온도 제어와 독창적인 챔버 설계로 미세구조 및 고집적 회로 생산에 최적화되어 있습니다.
CpZr은 ALD(원자층증착) 공정에서 ZrO₂ 박막 증착에 사용되는 고순도의 지르코늄계 유기금속 전구체입니다. DRAM, 3D NAND 등 첨단 반도체 소자의 미세 패턴 형성 및 고유전율 유전막 구현에 최적화되어 있으며, 뛰어난 증착 균일성과 높은 순도를 자랑합니다. SK트리켐의 독자적 기술력으로 생산되어 글로벌 메모리 제조사의 까다로운 품질 기준을 만족시키며, 안정적인 공급망과 맞춤형 솔루션 제공이 가능합니다.
그래핀 소재의 고품질 박막 형성을 위한 플라즈마 강화 원자층 증착(PE-ALD) 장비로, 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 핵심적인 역할을 합니다. 이 장비는 균일한 박막 증착, 공정 자동화, 고효율 생산성을 제공하며, 글로벌 시장에서 경쟁력 있는 국산화 솔루션으로 평가받고 있습니다. 맞춤형 설계와 신속한 A/S 지원이 가능해 대기업 반도체 라인에서도 테스트 및 양산이 진행 중입니다.
