반도체 웨이퍼 제조 공정에 필수적인 고순도 식각액으로, 미세회로 패턴 형성 시 금속이나 산화막 등을 정밀하게 제거합니다. 솔브레인은 초고순도의 화학 소재와 첨단 공정 기술을 바탕으로, 미세화·3D 구조 전환 등 최신 반도체 트렌드에 대응할 수 있는 다양한 식각액 라인업을 제공합니다. 글로벌 생산기지와 R&D 역량을 기반으로 국내외 주요 반도체 제조사에 안정적으로 공급하고 있습니다.
BOE Etchant는 반도체 및 디스플레이 제조 공정의 습식 식각(Wet Etching) 단계에서 실리콘 산화막 또는 질화막을 정밀하게 제거하는 데 사용되는 고순도 식각액입니다. ENF의 BOE 식각액은 우수한 식각 균일성과 높은 공정 안정성을 제공하며, 미세 패턴 구현에 최적화되어 있습니다. 첨단 반도체 및 디스플레이 생산라인에서 신뢰받는 핵심 소재로, 고객 맞춤형 배합 및 품질 관리가 강점입니다.
반도체 제조 공정에서 산화막 등 불필요한 층을 정밀하게 제거하는 데 사용되는 고순도의 HF(불산) 기반 식각액입니다. 뛰어난 순도와 안정성을 바탕으로 미세 패턴 구현에 최적화되어 있으며, 다양한 웨트 에칭(Wet Etching) 공정에 적용되어 생산 수율과 제품 신뢰성을 높여줍니다. 국내외 주요 반도체 및 디스플레이 업체에서 널리 채택되고 있습니다.
5-Aminotetrazole(5-ATZ)은 LCD 및 OLED 디스플레이 패널 제조공정의 식각 단계에서 사용되는 핵심 첨가제로, 미세 패턴 구현과 식각 속도 조절, 금속층 산화막 손상 방지 등 고화질 디스플레이 생산에 필수적인 역할을 합니다. 천보는 5-ATZ 분야에서 국내외 시장 점유율 1위를 기록하며, 고순도·고품질 제품을 대량 공급하고 있습니다.
HSN/고순도 불산은 반도체 제조 공정에서 산화막 식각 및 세정에 필수적으로 사용되는 초고순도의 화학 소재입니다. 솔브레인은 독자적인 정제 기술과 내재화된 원재료 공급망을 바탕으로, 글로벌 반도체 기업에 안정적으로 고품질의 HF를 공급합니다. 첨단 미세공정 대응이 가능한 높은 순도의 제품으로, 생산 효율성과 안전성을 동시에 제공합니다.
