EUV 블랭크 마스크는 차세대 반도체 공정에 필수적인 극자외선(EUV) 노광용 포토마스크의 원재료로, 초미세 회로 패턴 구현을 위한 고순도·고정밀 소재입니다. 에스앤에스텍은 대규모 시설 투자와 연구개발을 통해 EUV 공정에 최적화된 블랭크 마스크를 양산 준비 중이며, 글로벌 반도체 산업의 첨단화와 미세화 트렌드에 대응하는 핵심 소재로 자리매김하고 있습니다.
DUV 블랭크 마스크는 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 핵심적으로 사용되는 포토마스크의 원재료로, 석영유리기판 위에 금속박막과 감광액이 정밀하게 증착된 고순도 소재입니다. 에스앤에스텍은 일본 기업이 주도하던 시장에서 국산화에 성공하여, 미세공정 대응과 고품질 반도체 및 LCD 생산에 필수적인 제품을 공급합니다. DUV(Deep Ultraviolet) 공정에 최적화된 이 제품은 높은 투과율과 내구성을 자랑하며, 글로벌 반도체 제조사의 까다로운 품질 기준을 충족합니다.
최첨단 반도체 제조 공정에 필수적인 고순도 석영 유리 기판 위에 금속 박막과 감광액을 정밀하게 증착한 블랭크 마스크로, 패턴 노광 전 단계에서 사용되어 미세회로 구현의 정확성과 생산성을 극대화합니다. 에스앤에스텍은 EUV(극자외선) 및 DUV(심자외선) 공정에 최적화된 다양한 두께와 구조의 제품을 제공하며, 글로벌 반도체 기업에 공급하여 기술 경쟁력을 인정받고 있습니다.
LCD, OLED 등 평판 디스플레이(FPD) 제조 공정에 사용되는 대형 블랭크 마스크로, 다양한 판형과 두께, 에지 마스킹 옵션을 제공하여 고해상도 디스플레이 패널 생산에 최적화된 솔루션을 제공합니다. 고품질 소재와 정밀 가공 기술을 바탕으로 글로벌 디스플레이 제조사에 공급되고 있으며, 제품 신뢰성과 생산 효율성을 동시에 만족시킵니다.
EUV 블랭크마스크는 극자외선(EUV) 리소그래피 공정에 사용되는 첨단 반도체용 소재로, 7nm 이하 초미세 회로 패턴 구현에 필수적인 핵심 부품입니다. 고순도 석영 유리 기판 위에 금속 박막과 감광막이 정밀하게 증착되어, 미세공정에서 높은 해상도와 결함 제어를 실현합니다. EUV용 블랭크마스크는 기존 DUV용 대비 최소 10배 이상의 부가가치를 가지며, 글로벌 파운드리 및 메모리 반도체 제조사에 공급되고 있습니다.
반도체용 블랭크마스크는 반도체 회로의 미세 패턴을 구현하기 위한 포토마스크의 원재료로, 고순도 석영 유리와 금속 박막, 감광막으로 구성되어 있습니다. 6인치 등 다양한 규격으로 생산되며, 삼성전자, SK하이닉스, TSMC 등 글로벌 반도체 제조사에 공급되어 첨단 반도체 소자 생산의 핵심 역할을 담당합니다.
디스플레이용 블랭크마스크는 LCD, OLED 등 평판디스플레이(FPD) 제조 공정에서 사용되는 핵심 소재로, 대형 석영 유리 기판에 금속 박막과 감광막을 증착하여 고해상도 디스플레이 패널의 정밀한 패턴 형성에 기여합니다. 다양한 크기(33x45cm~122x140cm)로 제공되며, 글로벌 디스플레이 제조사에 공급되어 고품질 패널 생산을 지원합니다.
