PGMEA Thinner는 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 포토레지스트(PR) 코팅 전후의 세정 및 패턴 형성에 필수적으로 사용되는 고순도 용제입니다. 기판 가장자리 및 노즐의 불필요한 포토레지스트를 효과적으로 제거하여 공정 수율을 극대화하며, ENF의 독자적 정제 및 배합 기술로 고품질과 안정성을 동시에 제공합니다. 삼성전자, SK하이닉스 등 글로벌 반도체 제조사의 까다로운 품질 기준을 충족하며, 다양한 공정에 맞춤형 솔루션을 제공합니다.
재원산업은 국내 최초로 초고순도 PGMEA를 개발하여 삼성전자 등 글로벌 반도체 기업에 공급하고 있습니다. 이 제품은 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 필수적으로 사용되는 전자용제로, 독자적 증류 및 정제 기술을 통해 미량의 불순물까지 제거한 고순도·친환경 제품입니다. 품질 규격이 까다로운 첨단 산업 현장에 최적화되어 있으며, 국산화 및 상용화에 성공해 수입 대체 효과와 함께 세계 시장에서도 기술력을 인정받고 있습니다.
