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EUV레지스트
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ML-EUV® Series (극자외선 리소그래피용 수직분자선형 혼성다층막 EUV 레지스트)
(주)휴넷플러스
반도체감광제
EUV레지스트
초미세공정
나노소재
글로벌특허
ML-EUV® Series는 10nm 이하의 초고해상도와 2nm 이하의 선단 거칠기를 구현하는 차세대 극자외선(EUV) 감광제입니다. 유기·무기 분자 단량체를 건식 적층 공정으로 결합하여 기존 Wet/Dry Resist 대비 뛰어난 해상도와 박막 형성을 실현합니다. 글로벌 특허 및 독보적 기술력으로 반도체 미세공정 혁신을 주도하며, 미국 등 해외 시장에서도 경쟁력을 인정받고 있습니다.
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