SD CVD System은 반도체 제조 공정에서 핵심적인 저압화학증착(LPCVD) 기술을 적용한 장비로, 초미세 DRAM, 3D NAND, Logic 등 다양한 반도체 공정에서 균일하고 우수한 막질을 구현합니다. 고객 맞춤형 설계와 고효율, 고신뢰성의 공정 성능을 제공하며, 대량 생산 환경에서도 생산성을 극대화할 수 있습니다. 주성엔지니어링의 독보적 기술력으로 글로벌 반도체 제조사의 신뢰를 받고 있습니다.
미코세라믹스의 AIN 세라믹 히터는 알루미늄 나이트라이드(AlN) 소재를 기반으로, 반도체 증착(CVD, ALD) 공정 장비의 챔버 내에 장착되어 웨이퍼에 균일하고 정밀한 열을 공급하는 핵심 부품입니다. 고순도·고내열 특성을 바탕으로 높은 열전도율과 내구성을 제공하며, 글로벌 반도체 장비 제조사와 칩 메이커에 공급되어 공정 효율성과 생산성을 극대화합니다. 일본 등 해외 의존도가 높았던 제품의 국산화에 성공하여, 세계 일류상품 인증을 획득한 대표적 혁신 제품입니다.
LP-CVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 장비는 저압 환경에서 다양한 박막을 정밀하게 증착할 수 있는 첨단 시스템으로, 메모리·논리반도체 등 고집적 소자 제조에 최적화되어 있습니다. 자동 온도제어와 가스 유량 제어 기능으로 균일한 막질과 우수한 재현성을 보장하며 대량생산 라인에서도 안정적으로 운용됩니다.
혁신적인 기술력으로 제작되는 (주)에스비이엔지의 ETCH, CVD, IMP 등 반도체 장비용 핵심 부품은 150mm부터 300mm까지 다양한 규격을 지원하며, 고내구성·고정밀 소재를 사용해 국내외 고객사의 생산 효율성과 품질 향상에 기여합니다. 맞춤형 설계와 신속한 수리 서비스로 업계 신뢰도를 높이고 있습니다.
