ALD공정  제품/서비스 검색 결과 : 3건

반도체 제조 공정의 핵심 소재로 사용되는 ALD(원자층증착) 프리커스는 박막 형성의 균일성과 정밀도를 극대화하여 차세대 반도체 소자 개발 및 생산 효율 향상에 기여합니다.

반도체 DRAM, NAND Flash 등 첨단 메모리 제조 공정에서 사용되는 초고순도 ZrO₂ 전구체입니다. ALD(원자층 증착), CVD(화학기상증착) 등 차세대 증착공정에 최적화된 소재로, 미세 패턴 구현과 박막 형성에 탁월한 성능을 제공합니다. 이지티엠은 지속적인 R&D와 품질관리를 통해 글로벌 반도체 고객사에 안정적으로 공급하고 있습니다.

DNF의 DN-1200은 반도체 회로 형성에 필수적인 CVD/ALD 공정용 알루미늄 전구체로, 미세 패턴 구현과 박막 증착에서 탁월한 순도와 일관성을 자랑합니다. 고순도의 화학적 안정성과 우수한 증착 특성으로 글로벌 파운드리 및 메모리 제조사의 신뢰를 받고 있으며, 차세대 반도체 소자의 집적화와 성능 향상에 기여하는 핵심 소재입니다.