CVD SiC 코팅 부품은 화학기상증착(CVD) 기술을 활용해 표면에 실리콘카바이드(SiC) 코팅을 적용한 고내식성·고내열성 부품입니다. 반도체 및 디스플레이 제조 장비의 수명을 연장하고, 극한 환경에서도 안정적인 성능을 제공합니다. 티씨케이의 독자적인 코팅 기술로 생산되어, 글로벌 반도체 장비 시장에서 높은 평가를 받고 있습니다.
케이엔제이는 세계에서 두 번째로 CVD(화학기상증착) 방식의 실리콘카바이드(SiC) Focus Ring 양산에 성공한 기업으로, 이 제품은 반도체 식각 공정에서 플라즈마 균일성 유지 및 공정 수율 향상을 위해 사용됩니다. 고순도 SiC 소재와 정밀 가공 기술을 바탕으로 뛰어난 내식성과 내열성을 제공하며, 다양한 반도체 제조 환경에 최적화된 성능을 자랑합니다.
LP-CVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 장비는 저압 환경에서 다양한 박막을 정밀하게 증착할 수 있는 첨단 시스템으로, 메모리·논리반도체 등 고집적 소자 제조에 최적화되어 있습니다. 자동 온도제어와 가스 유량 제어 기능으로 균일한 막질과 우수한 재현성을 보장하며 대량생산 라인에서도 안정적으로 운용됩니다.
쌤빛의 CVD 장비 개조 및 공정 개선 솔루션은 반도체 및 디스플레이 제조 현장에 최적화된 맞춤형 업그레이드와 효율화 서비스를 제공합니다. 장비 성능 향상, 생산성 극대화, 공정 안정성 확보를 위한 기술 지원과 함께, 고객의 요구에 따라 장비 구조 개선, 신기술 적용, 유지보수까지 토탈 솔루션을 제공합니다.
MST ENGINEERING은 반도체와 디스플레이 산업 현장에 필요한 CVD(화학기상증착), Diffusion(확산) 등 전후공정 특수 장비를 맞춤 설계·제작합니다. 대형 크린룸에서의 설치부터 시운전까지 원스톱 서비스를 제공하며 IPC 인증을 획득한 전장 Box 조립과 케이블 제작까지 토탈 솔루션을 지원합니다.
CVD-SiC Focus Ring은 차세대 반도체 공정용으로 개발된 실리콘카바이드 소재의 포커스링입니다. 높은 공유결합에너지로 인해 강도와 내구성이 뛰어나며, 플라즈마 내성이 우수해 미세공정에서 파티클 발생을 최소화합니다. 기존 카본 소재 대비 불량률이 낮고, 수율 및 수명 증가 효과로 반도체 제조 효율성을 극대화합니다.
원익아이피에스의 CVD 장비는 반도체 웨이퍼 표면에 고품질의 박막을 형성하는 핵심 장비로, 메모리 및 비메모리 반도체, 디스플레이 제조 등 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 고온·저온 공정 모두에 적용 가능하며, 대면적 웨이퍼의 균일한 박막 형성과 생산성 향상에 강점을 보유하고 있습니다. 국내 최초로 양산용 Metal ALD/CVD 200/300mm 장비를 개발한 경험을 바탕으로, 글로벌 시장에서 경쟁력을 인정받고 있습니다.
