LP-CVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) 장비는 저압 환경에서 다양한 박막을 정밀하게 증착할 수 있는 첨단 시스템으로, 메모리·논리반도체 등 고집적 소자 제조에 최적화되어 있습니다. 자동 온도제어와 가스 유량 제어 기능으로 균일한 막질과 우수한 재현성을 보장하며 대량생산 라인에서도 안정적으로 운용됩니다.
유진테크는 화학기상증착(CVD), 원자층증착(ALD)에 사용되는 전구체 소재를 설계부터 합성·정제·유통까지 일괄 공급하는 솔루션을 제공합니다. 금속게이트와 캐패시터 등 첨단 소자의 박막 형성에 필수적인 고순도의 전구체를 안정적으로 공급하여 국내외 파트너사의 공정 혁신과 국산화율 제고에 기여하고 있습니다.
MST ENGINEERING은 반도체와 디스플레이 산업 현장에 필요한 CVD(화학기상증착), Diffusion(확산) 등 전후공정 특수 장비를 맞춤 설계·제작합니다. 대형 크린룸에서의 설치부터 시운전까지 원스톱 서비스를 제공하며 IPC 인증을 획득한 전장 Box 조립과 케이블 제작까지 토탈 솔루션을 지원합니다.
여러 장의 웨이퍼를 동시에 가공할 수 있는 수직 구조의 퍼니스 장비로서 확산(Diffusion), 저압 화학기상증착(LPCVD), 원자층증착(ALD) 등 다양한 반도체 공정에 대응합니다. 뛰어난 온도 제어와 독창적인 챔버 설계로 미세구조 및 고집적 회로 생산에 최적화되어 있습니다.
쌤빛의 CVD 장비 개조 및 공정 개선 솔루션은 반도체 및 디스플레이 제조 현장에 최적화된 맞춤형 업그레이드와 효율화 서비스를 제공합니다. 장비 성능 향상, 생산성 극대화, 공정 안정성 확보를 위한 기술 지원과 함께, 고객의 요구에 따라 장비 구조 개선, 신기술 적용, 유지보수까지 토탈 솔루션을 제공합니다.
Albatross™는 플라즈마 기반 화학기상증착(PECVD) 장비로서 다양한 절연막 및 보호층 증착에 특화되어 있습니다. 고밀도의 플라즈마 제어 기술을 통해 우수한 막질과 두께 균일성을 제공하며, 로직·메모리 등 다양한 반도체 소자 생산라인에서 활용됩니다. 경쟁사 대비 뛰어난 내구성과 유지보수 편의성이 강점입니다.
CVD SiC 코팅 부품은 화학기상증착(CVD) 기술을 활용해 표면에 실리콘카바이드(SiC) 코팅을 적용한 고내식성·고내열성 부품입니다. 반도체 및 디스플레이 제조 장비의 수명을 연장하고, 극한 환경에서도 안정적인 성능을 제공합니다. 티씨케이의 독자적인 코팅 기술로 생산되어, 글로벌 반도체 장비 시장에서 높은 평가를 받고 있습니다.
CVD(화학기상증착) 및 식각 공정에 사용되는 서셉터는 반도체 및 디스플레이 제조 장비의 온도 제어와 균일한 열 분포를 실현하는 핵심 부품입니다. 포인트엔지니어링의 서셉터는 고순도 알루미늄 소재와 특수 표면처리 기술로 내열성, 내식성, 파티클 방지 성능이 뛰어나며, 국내외 주요 반도체·디스플레이 제조사에 공급되고 있습니다.
