동우화인켐의 포토레지스트는 반도체 웨이퍼 표면에 미세 회로 패턴을 형성하는 데 필수적인 감광성 수지로, 첨단 노광 공정에 최적화된 고순도·고감도의 제품입니다. 정밀한 회로 구현과 생산 효율성을 극대화하여 국내외 주요 반도체 제조사에 공급되고 있으며, 지속적인 기술 혁신으로 나노미터급 초미세 공정에도 대응합니다.
최첨단 반도체 제조 공정에서 사용되는 감광성 수지로, 248nm 파장의 KrF(불화크립톤) 레이저 노광 장비에 최적화된 고순도 포토레지스트입니다. 미세 패턴 형성과 높은 해상도를 요구하는 D램, NAND 등 메모리 및 로직 반도체 생산에 필수적인 소재이며, 동진쎄미켐은 세계 시장 점유율 1위를 기록하고 있습니다. 우수한 감광 특성과 정밀한 패턴 구현력으로 글로벌 반도체 기업들의 신뢰를 받고 있습니다.
KISCO의 감광재는 반도체 및 디스플레이 제조 공정에 필수적인 고순도 포토레지스트 원료로, 미세 패턴 구현과 공정 안정성, 높은 수율을 실현합니다. 국내 유일의 감광재 제조사로서, LCD, OLED, 반도체 칩 등 첨단 전자소자 생산에 최적화된 소재를 공급하며, 글로벌 전자산업의 기술 혁신을 선도합니다.
최첨단 반도체 패키징에 필수적인 유리기판 전용 포토레지스트는 미세 회로 구현과 고해상도를 실현하며, 뛰어난 내열성과 화학적 안정성으로 차세대 고성능 반도체 기판 제조에 최적화된 감광재입니다. 국내외 주요 고객사의 양산 평가를 통과하여 본격 공급 중이며, 데이터 처리 속도 향상 및 전력 소모 절감 등 혁신적 성능을 제공합니다.
반도체 포토레지스트(PR) 제조에 사용되는 유기용제를 국산화하여 안정적으로 공급함으로써 국내 첨단 소재 산업 경쟁력을 높이고 있습니다. 덕산실업만의 독자적 정제 노하우와 품질관리 시스템을 바탕으로 반응성이 뛰어난 고순도의 시약을 생산·납품하고 있으며 대기업 고객사들의 신뢰를 받고 있습니다.
네패스는 디스플레이와 반도체 제조 공정에 필수적인 기능성 케미컬과 프로세스 화학제품을 공급합니다. 이 제품군은 스마트폰 및 자동차용 디스플레이 공정에서 사용되는 포토레지스트 현상액·세정액·연마제 등 고순도의 특수화학소재로 구성되어 있으며, 높은 품질과 생산성을 바탕으로 국내외 주요 IT 제조사와 협력하고 있습니다.
PGMEA Thinner는 반도체 및 디스플레이 제조 공정에서 포토레지스트(PR) 코팅 전후의 세정 및 패턴 형성에 필수적으로 사용되는 고순도 용제입니다. 기판 가장자리 및 노즐의 불필요한 포토레지스트를 효과적으로 제거하여 공정 수율을 극대화하며, ENF의 독자적 정제 및 배합 기술로 고품질과 안정성을 동시에 제공합니다. 삼성전자, SK하이닉스 등 글로벌 반도체 제조사의 까다로운 품질 기준을 충족하며, 다양한 공정에 맞춤형 솔루션을 제공합니다.
