그래핀랩의 EUV 펠리클은 세계 최초로 그래핀 소재를 적용한 극자외선(EUV) 노광용 마스크 보호막입니다. 독자적 저온 성장 그래핀 박막 컨트롤 기술과 CVD 양산 제조방식을 통해 90% 이상의 높은 투과율, 우수한 내구성 및 초박막 구조를 구현하였으며, 5nm 이하 반도체 공정에 필수적인 핵심 부품으로 인정받고 있습니다. 기존 필름 대비 오염 방지력과 열전도성이 뛰어나 차세대 반도체 생산라인에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
MERCURY는 반도체 및 FPD 제조 공정에서 사용되는 펠리클과 포토마스크의 결함을 고해상도 광학 기술로 신속하게 검사하는 첨단 장비입니다. 자동화된 검사 프로세스와 정밀한 결함 분석 기능을 통해 생산 효율성을 극대화하며, 미세 결함까지 검출 가능한 고성능 솔루션을 제공합니다. 글로벌 반도체 제조 현장에서 품질 관리의 핵심 장비로 자리매김하고 있습니다.