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그래핀랩의 EUV 펠리클은 세계 최초로 그래핀 소재를 적용한 극자외선(EUV) 노광용 마스크 보호막입니다. 독자적 저온 성장 그래핀 박막 컨트롤 기술과 CVD 양산 제조방식을 통해 90% 이상의 높은 투과율, 우수한 내구성 및 초박막 구조를 구현하였으며, 5nm 이하 반도체 공정에 필수적인 핵심 부품으로 인정받고 있습니다. 기존 필름 대비 오염 방지력과 열전도성이 뛰어나 차세대 반도체 생산라인에 최적화된 솔루션을 제공합니다.