피케이엘이 자체 개발한 반투과형 위상반전 포토마스크는 미세회로 패턴의 해상도와 생산성을 획기적으로 높여주는 첨단 제품입니다. 이 포토마스크는 반도체 칩의 미세화와 고집적화에 필수적이며, IR52 장영실상 수상 등 기술력을 공식적으로 인정받았습니다. 첨단 반도체 제조 공정의 경쟁력을 높이는 핵심 솔루션입니다.
TiN 전구체는 메모리 및 로직 칩 제조 시 배선 및 방지막 형성용으로 널리 활용됩니다. 우수한 도전성과 내식성을 갖춘 티타늄 나이트라이드 소재를 기반으로 하며 최신 ALD/CVD 장비와 호환성이 뛰어납니다. 이지티엠은 독자적 기술력과 엄격한 품질관리를 바탕으로 국내외 주요 파운드리에 공급 중입니다.