절연막소재  제품/서비스 검색 결과 : 2건

최첨단 반도체 공정용 HfO₂ 전구체는 Gate Dielectric 등 미세회로의 절연막 형성에 필수적인 소재입니다. 높은 순도의 하프늄 산화물을 기반으로 하며 ALD/CVD 공정에서 뛰어난 막질 특성과 내열성을 자랑합니다. 이지티엠은 세계 수준의 안전관리와 품질 시스템으로 글로벌 Top Tier 진입을 목표로 하고 있습니다.

HCDS는 첨단 반도체 제조 공정에서 절연막 형성에 사용되는 고순도의 실리콘 전구체로, 미세 패턴 구현과 박막 증착 공정에 최적화된 케미칼입니다. 오션브릿지는 엄격한 품질 관리와 안정적인 공급 체계를 통해 글로벌 반도체 기업에 고품질 HCDS를 제공하고 있습니다.