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Dry Etcher는 반도체 제조 공정에서 핵심적인 건식 식각 장비로, 플라즈마를 이용해 미세 패턴을 정밀하게 형성하는 데 사용됩니다. 세미즈의 Dry Etcher는 오랜 경험과 기술력을 바탕으로 고품질의 식각 성능과 공정 안정성을 제공하며, 최신 반도체 생산 환경에 최적화된 설계와 신속한 A/S 지원으로 고객 만족도를 높입니다. Cleanroom 기반의 생산 및 특화된 리페어 서비스도 함께 제공되어, 반도체 제조사의 생산 효율을 극대화합니다.