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이온주입기
제품/서비스 검색 결과 :
2
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설명
RF ICP 소스 (RF 타입 이온·플라즈마 생성장치)
(주)밸류엔지니어링
반도체장비
플라즈마소스
이온주입기
RF기술
공정혁신
약 40년간 미국 기업들이 주도하던 DC타입 대신, 자체 개발한 RF타입의 ICP 소스를 적용하여 저전력·고효율을 실현한 이온주입 장비용 핵심 부품입니다. 나노 단위 파티클 제어와 플라즈마 코팅 등 첨단 공정에 최적화되어 반도체 수율 극대화와 공정 혁신을 지원합니다.
Scan Robot for 300mm Ion Implanter
(주)나인벨
스캔로봇
이온주입기
웨이퍼핸들링
반도체자동화
산업용로봇
Scan Robot for 300mm Ion Implanter는 이온 주입기용으로 설계된 고정밀 스캔 로봇으로, 대구경(300mm) 웨이퍼의 안정적이고 반복적인 핸들링 및 위치 제어를 지원합니다. 빠른 동작 속도와 높은 내구성으로 생산라인의 효율성을 높이며 다양한 반도체 제조 환경에서 활용됩니다.
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