웨이퍼프로세스  제품/서비스 검색 결과 : 3건

TES PECVD 장비는 반도체 제조 공정 중 박막 증착에 특화된 첨단 설비로, 플라즈마를 이용해 실리콘 웨이퍼 표면에 균일하고 정밀한 박막을 형성합니다. 이 장비는 고품질의 절연막과 보호막을 빠르고 안정적으로 증착할 수 있어 DRAM, NAND 등 메모리 반도체 생산라인에서 필수적인 역할을 하며, 삼성전자와 SK하이닉스 등 글로벌 기업에도 공급되고 있습니다. 높은 생산 효율성과 우수한 공정 제어 능력을 자랑하며, 다양한 어플리케이션 대응이 가능합니다.

JS-SemiPro 시리즈는 첨단 반도체 생산 공정에 최적화된 고성능 제조장비로, 미세공정 대응 자동화 시스템과 정밀 제어 솔루션을 탑재하여 생산 효율성과 품질 안정성을 극대화합니다. 고객 맞춤형 설계와 신속한 유지보수 지원으로 글로벌 반도체 산업에서 경쟁력을 인정받고 있습니다.

최신 반도체 공정에 최적화된 ILSAN 300mm 웨이퍼 프로세스 장비는 고정밀 자동화 시스템과 안정적인 온도·압력 제어 기능을 갖추고 있어, 미세공정 및 대량생산 환경에서 뛰어난 생산성과 품질을 실현합니다. 다양한 반도체 칩 제조 라인에 적용 가능하며, 고객 맞춤형 옵션으로 효율성을 극대화할 수 있습니다.