웨이퍼열처리  제품/서비스 검색 결과 : 2건

PF-V12 Vertical Furnace System은 반도체 제조 공정에 최적화된 고성능 수직 퍼니스 장비로, 산화(Oxidation) 및 N2/H2 어닐링(Annealing) 공정에 사용됩니다. 125mm부터 300mm까지 다양한 웨이퍼 크기를 지원하며, 최대 75장의 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있습니다. 400℃~1150℃의 넓은 온도 범위와 ±0.5~1℃의 우수한 열 균일성, 0.1~25℃/min의 램프 속도, 3~125cm/min의 보트 속도 등 첨단 사양을 갖추고 있어, 고품질 반도체 생산에 필수적인 장비입니다.

SGN의 전기로는 반도체 웨이퍼 가공 및 열처리 공정에 특화된 고성능 장비로서, 온도 제어의 정확성과 내구성이 뛰어나며 다양한 크기와 사양으로 제공됩니다. 첨단 센서 기반 제어기술을 적용해 에너지 효율과 작업 안전성을 동시에 실현합니다.