MSX 1000은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼에 감광액을 균일하게 도포하는 고정밀 스핀 코터 장비입니다. 고속 회전 제어 기술과 정밀 분사 시스템을 적용해 미세 패턴 형성에 최적화되어 있으며, 다양한 웨이퍼 크기와 재질에 대응할 수 있는 유연한 설계로 생산 효율성과 품질을 동시에 제공합니다.
Spin Processor는 반도체 웨이퍼 표면에 균일한 박막을 형성하거나 세정액을 분사해 오염을 제거하는 고속 회전식 장비입니다. 정밀한 회전 제어와 다양한 용액 분사 기능을 통해 미세 패턴의 균일한 코팅 및 세정이 가능하며, 생산 라인의 자동화와 공정 효율성을 크게 높여줍니다. 반도체, 디스플레이 등 첨단 산업 분야의 핵심 공정에 최적화된 솔루션입니다.