순도 99.999% 이상의 고순도 금 또는 합금으로 제작된 스퍼터링 타겟은 반도체 웨이퍼 표면에 균일하고 정밀한 박막을 형성하는 데 사용됩니다. 다양한 형태(원형·평판 등)로 고객 맞춤 생산 가능하며 TS16949 품질 시스템과 엄격한 분석 공정을 통해 최고의 재현성과 안정성을 보장합니다.
반도체와 디스플레이 제조 공정에서 필수적인 스퍼터링 타겟 및 증발원을 자체 개발·생산하여 공급합니다. 알루미늄 질화물(AIN), 알루미나(AI₂O₃), 탄소계 등 다양한 재질로 제작 가능하며 높은 순도의 균일한 박막 형성 능력과 안정적인 성능을 보장해 차세대 소자 제조에 적합합니다.
동광테크의 증착소재(TARGET)는 평면 및 튜브 타입으로 제공되며, 높은 순도와 정밀한 가공 정확도를 바탕으로 PVD(스퍼터링), 도금 등 첨단 제조공정에 사용됩니다. 반도체, PCB, 디스플레이, 필름 등 다양한 산업의 증착라인에 최적화된 소재로, 고객 맞춤형 합금 제조도 가능합니다.
인듐계 산화물 TCO 타겟은 고순도 인듐 주성분의 투명전도막(Transparent Conductive Oxide) 소재로, 디스플레이 및 태양광 패널 등에서 전기적 투명성과 우수한 내구성을 제공합니다. 스퍼터링 공정에 최적화된 고밀도 세라믹 형태로 생산되며, OLED·LCD·태양전지 등 차세대 전자소자 제조에 필수적인 핵심 소재입니다.
