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국내 최초로 개발된 질소 주입 방식의 LPM은 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 이송 시 외부 오염과 수분에 의한 수율 저하를 획기적으로 방지합니다. 고순도 질소 환경을 구현하여 미세공정의 안정성과 생산성을 극대화하며, 글로벌 IDM(종합반도체기업)들이 채택하는 표준 장비로 자리잡았습니다. 일본산 대비 우수한 기술력으로 해외 시장에서도 경쟁력을 인정받고 있습니다.