DRAM 및 NAND 등 메모리 반도체 제조 과정에서 불순물·파티클 제거를 위해 사용되는 고순도의 세정 솔루션으로, TSV 공정을 포함한 미세 패터닝 단계에서 높은 세척력과 낮은 잔류물 특성을 자랑합니다. HBM 등 차세대 메모리 시장 확대와 함께 수요가 증가하고 있으며 SK하이닉스를 비롯한 주요 고객사에 납품되고 있습니다.
네패스는 디스플레이와 반도체 제조 공정에 필수적인 기능성 케미컬과 프로세스 화학제품을 공급합니다. 이 제품군은 스마트폰 및 자동차용 디스플레이 공정에서 사용되는 포토레지스트 현상액·세정액·연마제 등 고순도의 특수화학소재로 구성되어 있으며, 높은 품질과 생산성을 바탕으로 국내외 주요 IT 제조사와 협력하고 있습니다.