GAIA-Ⅰ/Ⅱ는 반도체 및 디스플레이 제조공정에서 발생하는 유해 배출가스를 효율적으로 정화하는 첨단 스크러버 장비입니다. 플라즈마·연소·습식 등 다양한 방식으로 가스를 처리하며, 대형 설비에도 적용 가능한 고성능 모델입니다. 차별화된 기술력으로 PM(정기점검) 주기가 길고 유지보수 비용이 절감되며, 글로벌 반도체 제조사의 까다로운 환경 기준을 충족합니다. 친환경성과 안정성을 동시에 갖춘 이 장비는 생산라인의 안전과 효율 향상에 기여합니다.
반도체·디스플레이·이차전지 제조 공정에 최적화된 다원시스의 플라즈마 전원장치는 정밀한 출력 제어와 높은 신뢰성을 바탕으로 다양한 산업 현장에서 활용됩니다. 고주파 및 펄스 파워 서플라이 기술이 집약되어 있으며, 첨단 소재 가공 및 표면처리 공정에서 생산성과 품질 향상을 실현하는 혁신적 파워 일렉트로닉스 장비입니다.
반도체 제조 공정에 최적화된 아이산의 VLF*M-***KF Series 고진공 게이트밸브는 우수한 내식성과 고온 환경 대응력을 갖추고 있습니다. 최소 15,000개 이상이 국내외 반도체 생산라인에 납품되었으며, 완벽한 기밀성과 청정도를 실현하여 파티클 유입 및 누설을 효과적으로 방지합니다. 안전장치와 개폐 상태 시각 확인 기능 등 첨단 설계로 장비 신뢰성을 극대화하며, 기존 제품 대비 수명 연장과 비용 효율성까지 제공합니다.
마이크로 엔드밀은 반도체·전자·정밀기계 가공 등 미세가공이 필요한 분야에서 사용되는 고정밀 절삭 공구입니다. 네오티스는 독자적인 초경합금 소재와 첨단 연삭 기술을 적용하여 뛰어난 내마모성과 절삭 성능을 실현하였으며, 복잡한 형상 가공에도 탁월한 품질과 긴 수명을 제공합니다.
최첨단 2차전지, 반도체, IT 제조공정에 필수적인 초저습 환경을 구현하는 금영이엔지의 드라이룸은 온·습도 정밀 제어 기술과 에너지 효율성을 극대화한 설계로 생산성 향상과 품질 안정성을 동시에 실현합니다. 대형 플랜트부터 맞춤형 소규모 라인까지 다양한 산업군에 최적화된 턴키 솔루션을 제공합니다.
EMI Shield용 Sputtering System은 고균일 박막 두께(≤0.5%@40nm) 구현과 높은 생산성을 자랑하는 첨단 증착 장비입니다. 다양한 금속(Ti, Al, Cu 등) 및 산화물(SiO₂ 등)을 웨이퍼와 글라스 기판에 정밀하게 증착할 수 있으며, 클러스터 타입 시스템으로 자동화된 진공 로봇 이송 및 플라즈마 처리 옵션을 제공합니다. 반도체, LED, SAW 필터 등 첨단 전자부품 제조 공정에 최적화되어 있습니다.
