(주)에이씨엠리서치코리아

Ultra Pmax™ PECVD는 첨단 로직 및 메모리 반도체 제조를 위한 플라즈마 강화 화학 기상 증착 장비로, ACM 고유의 챔버와 가스 분배 설계, 다중 히터 시스템을 적용해 필름 균일성, 응력 저감, 입자 성능을 극대화합니다. 단일 챔버 모듈식 구조로 1~5개 챔버 구성이 가능하며, 얇은 층 증착부터 후막 공정까지 다양한 생산 환경에 최적화된 높은 생산성과 정밀한 공정 제어를 제공합니다.

• 반도체장비
• PECVD
• 박막증착
• 로직반도체제조
• 첨단공정

Ultra C SiC Cleaning Tool은 실리콘카바이드(SiC) 등 화합물 반도체용 프론트엔드 습식 세정에 특화된 첨단 장비입니다. 자동화 시스템과 정밀 온·습도 제어 기능으로 미세 오염물 제거 효율(PRE)을 극대화하며 N2 스프레이와 고압 기술을 통해 차세대 전기차·5G·AI 소자 제조의 품질과 수율 향상을 지원합니다.

• SiC반도체장비
• 습식세정장비
• 화합물반도체공정
• 웨이퍼클리닝시스템
• 전기차부품제조

Ultra Track은 포토레지스트(PR) 코팅 및 현상 공정을 위한 트랙(Track) 시스템으로서 노광 후 베이크와 현상 등 핵심 단계에서 우수한 유량 및 온도 제어 능력을 제공합니다. 자동 세척 기능과 독립적 캐비티 제어가 가능해 미세 패턴 형성의 균일성과 수율 향상에 기여하며 IC 리소그래피 지원에 최적화되어 있습니다.

• 포토레지스트코팅기
• 트랙시스템장비
• 리소그래피공정지원장치
• WLP패키징공정설비
• FAB자동화솔루션