(주)피앤테크

PF-V12 Vertical Furnace System은 반도체 제조 공정에 최적화된 고성능 수직 퍼니스 장비로, 산화(Oxidation) 및 N2/H2 어닐링(Annealing) 공정에 사용됩니다. 125mm부터 300mm까지 다양한 웨이퍼 크기를 지원하며, 최대 75장의 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있습니다. 400℃~1150℃의 넓은 온도 범위와 ±0.5~1℃의 우수한 열 균일성, 0.1~25℃/min의 램프 속도, 3~125cm/min의 보트 속도 등 첨단 사양을 갖추고 있어, 고품질 반도체 생산에 필수적인 장비입니다.

• 반도체장비
• 퍼니스
• 웨이퍼열처리
• 반도체공정
• 수직퍼니스

PF-D81 Series Furnace는 반도체 제조용 열처리 장비로, 정밀한 온도 제어와 균일한 열 분포를 제공하여 다양한 반도체 공정에 적용됩니다. 고효율 설계와 신뢰성 높은 성능으로, 생산성 향상과 품질 확보에 기여하는 핵심 장비입니다. 다양한 사양과 맞춤형 옵션을 통해 고객의 요구에 최적화된 솔루션을 제공합니다.

• 반도체장비
• 열처리로
• 반도체공정
• Furnace
• 산업설비