최첨단 플라즈마 화염 기술을 적용한 플라즈마 가스 스크러버는 반도체 전공정에서 발생하는 온실가스(PFCs, 산성가스 등)와 유해가스를 3,000℃ 이상의 고온 플라즈마로 대용량·고효율 처리합니다. 최신 저전력 설계와 대용량 처리 기술을 접목해, 미세먼지 및 온실가스 저감에 탁월한 성능을 발휘하며, 반도체·디스플레이·태양광 산업 현장의 대기환경 개선에 최적화된 솔루션을 제공합니다.
세계 최초로 개발된 무폐수 플라즈마 스크러버는 반도체, 태양광, 디스플레이 등 첨단 산업 공정에서 발생하는 유해가스를 고온 플라즈마 방식으로 처리하여 다양한 가스를 효율적으로 정화합니다. 기존 Burn & Wet 방식 대비 처리 용량과 가스 종류가 월등히 다양하며, 연간 2,365톤의 폐수를 절감할 수 있는 친환경 설비입니다. 고객 맞춤형 설계와 높은 신뢰성으로 글로벌 반도체 공급망에서 공식적으로 인정받고 있습니다.
최첨단 플라즈마 절단 기술을 적용한 태원정공의 플라즈마 절단기는 다양한 금속 소재를 빠르고 정밀하게 가공할 수 있습니다. 고효율, 내구성, 작업 편의성을 모두 갖춘 이 장비는 조선, 중공업 등 산업 현장에서 생산성과 품질 향상에 기여하며, 세계 시장에서도 인정받는 기술력을 자랑합니다.
MKS의 플라즈마 및 반응성 가스 솔루션은 박막 증착(CVD/PVD), 식각 등 첨단 소재 처리 공정을 위한 맞춤형 시스템입니다. RF 파워 공급기와 고효율 플라즈마 소스를 결합하여 균일하고 재현성 높은 플라즈마 환경을 제공하며 복잡한 미세 패턴 형성과 신소재 개발에 필수적인 장비로 인정받고 있습니다.
MAK의 대기압 플라즈마 장비는 반도체, 디스플레이, 각종 필름 제조 공정에 적용되어 표면 세정, 활성화, 멸균 등 다양한 용도로 사용됩니다. 맞춤형 플라즈마 소스 설계와 정밀 제어 기술을 바탕으로, 고효율·고신뢰성의 공정 환경을 제공합니다. 친환경적이며, 생산성 향상과 품질 개선에 기여하는 첨단 장비입니다.
GAIA-Ⅰ/Ⅱ는 반도체 및 디스플레이 제조공정에서 발생하는 유해 배출가스를 효율적으로 정화하는 첨단 스크러버 장비입니다. 플라즈마·연소·습식 등 다양한 방식으로 가스를 처리하며, 대형 설비에도 적용 가능한 고성능 모델입니다. 차별화된 기술력으로 PM(정기점검) 주기가 길고 유지보수 비용이 절감되며, 글로벌 반도체 제조사의 까다로운 환경 기준을 충족합니다. 친환경성과 안정성을 동시에 갖춘 이 장비는 생산라인의 안전과 효율 향상에 기여합니다.
플라즈마 백연 제거장치는 발전소 및 산업 현장에서 발생하는 백연(흰 연기)과 미세먼지를 효과적으로 제거하는 첨단 환경설비입니다. 고효율 플라즈마 기술을 적용하여 대기 중 입자상 물질(PM)을 신속하게 분해·제거하며 설치 공간이 작고 유지보수가 간편합니다. 친환경 규제 대응과 작업 환경 개선에 최적화된 솔루션입니다.
