트라이비스의 PMI 시리즈는 PCB, FPD, 반도체용 포토마스크 생산 및 사용 과정에서 발생할 수 있는 미세 결함을 고성능 광학 시스템과 독자적인 영상 처리 알고리즘으로 신속하고 정확하게 검출합니다. 자동화된 검사 공정과 정밀한 데이터 분석 기능을 통해 불량률 감소와 생산 효율 극대화를 실현하며, 다양한 고객 맞춤형 옵션 제공으로 글로벌 시장에서 높은 신뢰를 받고 있습니다.
SUN 시리즈는 반도체 노광 공정에 사용되는 레티클(포토마스크)의 미세 결함을 신속하게 검출하는 고정밀 검사장비입니다. 고성능 광학계와 자체 개발한 영상 분석 소프트웨어를 통해 미세한 오염, 스크래치, 패턴 결함까지 정확하게 판별하며, 생산 라인의 품질 안정성과 수율 향상에 기여합니다.
피케이엘의 반도체용 포토마스크는 첨단 반도체 제조 공정에서 핵심 역할을 수행하는 고정밀 광학 마스크로, 미세회로 패턴의 정확한 전사를 통해 메모리, 로직 등 다양한 반도체 칩의 생산 효율과 품질을 극대화합니다. 삼성전자, 현대전자 등 글로벌 반도체 기업에 공급되며, 나노미터급(32nm, 45nm, 65nm 등) 첨단 공정에 최적화된 기술력과 신뢰성을 자랑합니다.
0.8~1㎛ 회로 선폭과 580×610mm 대형 규격을 구현한 고정밀 포토마스크로, 국내 주요 OLED 제조사에 공급되고 있습니다. 차세대 디스플레이 및 전자기기의 경박단소화와 고해상도 구현에 필수적인 핵심 부품으로, 반복 사용에도 패턴 왜곡이 적고 정밀도가 뛰어나 반도체·디스플레이 산업의 품질 혁신을 이끌고 있습니다.
TFT-LCD용 포토마스크는 대형 액정 디스플레이 제조에 필수적인 고정밀 마스크로, 피케이엘은 국내 유일의 생산업체로서 세계 2위의 생산시설을 보유하고 있습니다. 고해상도·대면적 디스플레이 패널 생산에 최적화된 제품으로, 일본 HOYA와 경쟁하며 국내 시장 점유율 20%를 차지하고 있습니다. 대형 TV, 모니터, 모바일 디스플레이 등 다양한 분야에 적용됩니다.
EUV Pellicle은 극자외선(EUV) 노광 공정에 사용되는 첨단 포토마스크 보호막으로, 반도체 회로의 미세화 및 고집적화에 필수적인 핵심 부품입니다. FST의 EUV Pellicle은 초박막 고내구성 소재와 정밀 가공 기술을 바탕으로, EUV 광원의 투과율과 내구성을 극대화하여 생산 효율성과 수율을 높입니다. 삼성전자 및 글로벌 반도체 장비사와의 협업을 통해 세계 최고 수준의 품질과 신뢰성을 인정받고 있습니다.
피케이엘이 자체 개발한 반투과형 위상반전 포토마스크는 미세회로 패턴의 해상도와 생산성을 획기적으로 높여주는 첨단 제품입니다. 이 포토마스크는 반도체 칩의 미세화와 고집적화에 필수적이며, IR52 장영실상 수상 등 기술력을 공식적으로 인정받았습니다. 첨단 반도체 제조 공정의 경쟁력을 높이는 핵심 솔루션입니다.
마이크로이미지의 Photo Mask는 정밀한 레이저 패터닝 기술과 엄격한 품질관리를 통해 생산되며, 반도체·PCB·디스플레이 등 다양한 광노광(Photolithography) 공정에 필수적인 핵심 부품입니다. 고해상도 패턴 구현과 미세회로 제작에 최적화되어 있어 고객사의 제품 경쟁력 향상에 기여합니다.
